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TO257T型管壳封装设计及电子封装用95%Al2O3金属化层制备

摘要第11-13页
Abstract第13-14页
第1章 绪论第15-31页
    1.1 电子集成及微组装工艺第15-16页
        1.1.1 电子集成概论第15页
        1.1.2 微组装工艺及其发展第15-16页
    1.2 电子封装材料概况第16-20页
        1.2.1 电子封装材料简介第16-17页
        1.2.2 封装材料的分类第17-20页
    1.3 氧化铝陶瓷封接工艺与金属化第20-24页
        1.3.1 氧化铝陶瓷应用简介第20-22页
        1.3.2 陶瓷金属封接工艺第22-24页
    1.4 Mo-Mn法及活化Mo-Mn法对Al_2O_3陶瓷金属化第24-27页
        1.4.1 Mo-Mn法第24-26页
        1.4.2 活化Mo-Mn法第26-27页
    1.5 镍涂层的应用第27-29页
        1.5.1 电镀镍第27-28页
        1.5.2 烧结镍第28页
        1.5.3 化学镀镍第28-29页
    1.6 本文的主要研究内容第29-31页
第2章 试验材料及方法第31-39页
    2.1 试验材料第31-33页
        2.1.1 TO-257T-New管壳封装第31页
        2.1.2 95%Al_2O_3陶瓷金属化层制备第31-33页
    2.2 TO-257T-New管壳封装试验及测试方法第33-34页
        2.2.1 TO-257T-New管壳封装流程第33页
        2.2.2 温度循环及气密性测试第33-34页
        2.2.3 热阻测试第34页
    2.3 95%Al_2O_3陶瓷金属化层制备及测试方法第34-39页
        2.3.1 95%Al_2O_3陶瓷金属化层制备及封接第34-36页
        2.3.2 物相分析第36-37页
        2.3.3 形貌及成分分析第37页
        2.3.4 抗拉强度测试第37-39页
第3章 高可靠半导体管壳封装设计第39-53页
    3.1 管壳封装要求第39-41页
        3.1.1 封装基本原则第39-40页
        3.1.2. 封装可靠性第40页
        3.1.3 散热条件控制第40-41页
    3.2 封装材料设计第41-46页
        3.2.1 绝缘片第41-42页
        3.2.2. 底板第42-43页
        3.2.3 边框第43页
        3.2.4 热沉片第43-44页
        3.2.5 接地线第44页
        3.2.6 绝缘子第44-45页
        3.2.7 密封环、引线及盖板第45-46页
    3.3 封装工艺设计第46-49页
        3.3.1 封装工艺参数设计第46-47页
        3.3.2 焊缝组织测试第47-49页
    3.4 管壳性能测试第49-50页
        3.4.1 温度循环及气密性测试第49-50页
        3.4.2 热阻测试第50页
    3.5 本章小结第50-53页
第4章 MnO-SiO_2-Al_2O_3系活化剂金属化层第53-81页
    4.1 金属化配方设计第53-57页
        4.1.1 Mo粉及MnO-SiO_2-Al_2O_3体系的选择第53-54页
        4.1.2 氧化物膨胀系数设计第54-55页
        4.1.3 活化剂熔化温度第55-57页
    4.2 金属化层表面物相分析第57-58页
    4.3 金属化层组织形貌及成分分析第58-63页
        4.3.1 金属化层表层组织形貌及成分第58-60页
        4.3.2 金属化层下层组织形貌及成分第60-61页
        4.3.3 金属化层横截面微观组织及成分分析第61-63页
    4.4 金属化层原理分析第63-65页
    4.5 涂层厚度对金属化层组织的影响第65-68页
    4.6 烧结温度对金属化层组织的影响第68-72页
    4.7 MnO-SiO_2-Al_2O_3配比对金属化层的影响第72-74页
    4.9 焊接及抗拉性能第74-78页
    4.10 本章小结第78-81页
第5章 MnO-TiO_2系活化剂金属化层第81-89页
    5.1 金属化配方设计第81-82页
        5.1.1 Mo粉及MnO-TiO_2体系的选择第81页
        5.1.2 氧化物膨胀系数设计第81-82页
        5.1.3 活化剂熔化温度第82页
    5.2 金属化层物相分析第82-83页
    5.3 金属化层表面组织形貌及成分分析第83-85页
    5.4 金属化截面形貌及成分分析第85-86页
    5.5 不同烧结温度对金属化层的影响第86-87页
    5.6 本章小结第87-89页
第6章 结论第89-91页
参考文献第91-95页
致谢第95-96页
学位论文评阅及答辩情况表第96页

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