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InN量子点应变分析及其特性研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-6页
目录第6-7页
第一章 绪论第7-14页
   ·引言第7页
   ·InN材料研究国内外现状第7-10页
   ·量子点内应变场分布研究现状第10-11页
   ·论文研究的意义及内容第11-14页
第二章 半导体量子点及有限元理论简介第14-25页
   ·半导体量子点的基本特性第14-16页
   ·半导体量子点的生长理论第16-19页
   ·半导体量子点的检测技术第19-23页
   ·有限元理论简介第23-25页
第三章 不同形状掩埋InN/GaN量子点的应变分布第25-35页
   ·量子点的应变场理论第25-26页
   ·InN/GaN应变层临界厚度的计算第26-29页
   ·有限元几何模型第29-30页
   ·量子点应变场的有限元分析第30-33页
   ·量子点能量计算第33页
   ·本章小结第33-35页
第四章 非掩埋和掩埋InN/GaN量子点应变场分布比较第35-38页
   ·纵向应变场分布第35-36页
   ·横向应变场分布第36页
   ·静水应变和双轴应变分布及能量计算第36-37页
   ·本章小结第37-38页
第五章 InN/GaN量子点的特征检测与分析第38-46页
   ·InN/GaN量子点的双晶衍射实验第38-39页
   ·InN/GaN量子点的原子力显微镜观测第39-40页
   ·InN/GaN量子点的发光特性第40-42页
   ·InN/GaN量子点的应变场分布及能量计算第42-44页
   ·本章小结第44-46页
第六章 总结与展望第46-48页
   ·总结第46-47页
   ·展望第47-48页
致谢第48-49页
参考文献第49-51页
攻读硕士学位期间发表的论文第51页

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