激光刻痕降低取向硅钢铁损技术研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| ·研究背景 | 第11-13页 |
| ·取向硅钢需求状况 | 第11-12页 |
| ·取向硅钢及其铁损研究 | 第12-13页 |
| ·细化磁畴降低铁损基本原理与技术 | 第13-22页 |
| ·铁损及其影响因素 | 第13-15页 |
| ·初始磁畴形成机理 | 第15-18页 |
| ·磁畴细化机理与方法 | 第18-21页 |
| ·激光刻痕技术发展现状与趋势 | 第21-22页 |
| ·取向硅钢磁畴显示 | 第22-24页 |
| ·取向硅钢磁畴显示方法 | 第22-23页 |
| ·磁流体制备问题与解决 | 第23-24页 |
| ·研究目的及内容 | 第24-25页 |
| 第2章 磁畴显示机理与磁流体配制研究 | 第25-35页 |
| ·磁流体显示磁畴机理 | 第25-27页 |
| ·磁流体的构成及磁性 | 第25-26页 |
| ·磁流体显示磁畴机制 | 第26-27页 |
| ·磁流体配制 | 第27-30页 |
| ·反应机理与试剂用量 | 第27页 |
| ·四氧化三铁制备 | 第27-28页 |
| ·磁流体制备 | 第28-29页 |
| ·检测分析 | 第29-30页 |
| ·新型磁流体磁畴显示效果与特点 | 第30-34页 |
| ·磁畴显示效果 | 第30-31页 |
| ·新型磁流体特点 | 第31-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第3章 激光刻痕降低铁损理论分析 | 第35-45页 |
| ·传统理论模型 | 第35-38页 |
| ·取向硅钢铁损比例理论计算 | 第35页 |
| ·磁畴宽度与反常涡流损耗关系模型 | 第35-37页 |
| ·磁畴宽度与晶粒尺寸和应力的关系模型 | 第37-38页 |
| ·位错-应力机制分析 | 第38-42页 |
| ·刻痕间距计算与分析 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第4章 激光刻痕主要影响因素研究 | 第45-55页 |
| ·实验方案 | 第45-47页 |
| ·实验装置与方法 | 第45-46页 |
| ·实验样品制备 | 第46-47页 |
| ·加工工艺参数 | 第47页 |
| ·实验操作 | 第47-48页 |
| ·实验结果与分析 | 第48-54页 |
| ·初始铁损的影响 | 第48-49页 |
| ·取向度B_8的影响 | 第49-51页 |
| ·剪切应力的影响 | 第51-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第5章 激光刻痕工艺研究与设备模型 | 第55-73页 |
| ·输入电流的研究 | 第55-59页 |
| ·实验方案与试样制备 | 第55-56页 |
| ·实验结果与分析 | 第56-58页 |
| ·结果验证 | 第58-59页 |
| ·脉冲频率与刻痕速度的研究 | 第59-63页 |
| ·实验方案与试样制备 | 第59-60页 |
| ·实验结果与分析 | 第60-63页 |
| ·较佳工艺处理效果观察与分析 | 第63-65页 |
| ·刻痕点SEM观察与分析 | 第63-64页 |
| ·磁畴结构观察与分析 | 第64-65页 |
| ·激光刻痕中试设备模型提出 | 第65-71页 |
| ·核心部件性能及要求 | 第66-70页 |
| ·辅助部件性能及要求 | 第70-71页 |
| ·本章小结 | 第71-73页 |
| 第6章 激光-化学耐热刻痕技术研究 | 第73-83页 |
| ·技术原理 | 第73页 |
| ·腐蚀工艺研究 | 第73-79页 |
| ·试样制备 | 第73-74页 |
| ·腐蚀液浓度研究 | 第74-77页 |
| ·腐蚀时间研究 | 第77-79页 |
| ·耐热性研究 | 第79-81页 |
| ·实验方案 | 第79页 |
| ·实验结果 | 第79-81页 |
| ·实验分析 | 第81页 |
| ·本章小结 | 第81-83页 |
| 第7章 结论 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-88页 |
| 致谢 | 第88页 |
