| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-38页 |
| ·超导材料的发展历史 | 第16-18页 |
| ·超导体的主要性质 | 第18-21页 |
| ·超导材料的零电阻效应 | 第18-19页 |
| ·超导材料的迈斯纳效应 | 第19-20页 |
| ·超导体的约瑟夫森效应 | 第20页 |
| ·超导材料的重要超导参数 | 第20-21页 |
| ·第一类超导体及第二类超导体 | 第21-23页 |
| ·高温超导体 YBCO 的材料特性 | 第23-24页 |
| ·高温超导体 YBCO 的应用 | 第24-27页 |
| ·YBCO 在强电应用领域的用途 | 第25-26页 |
| ·YBCO 在小电流应用领域的用途 | 第26-27页 |
| ·YBCO 在抗磁性方面的应用 | 第27页 |
| ·YBCO 膜材料的制备方法 | 第27-31页 |
| ·YBCO 膜材料的晶体性质及超导性质的测试方法 | 第31-34页 |
| ·YBCO 外延膜的晶体性质分析技术 | 第31-33页 |
| ·YBCO 超导性质分析技术 | 第33-34页 |
| ·YBCO 膜材料的国内外研究现状 | 第34-36页 |
| ·本论文的主要内容 | 第36-38页 |
| 第二章 制备 YBCO 外延膜的光辅助 MOCVD 系统 | 第38-58页 |
| ·MOCVD 技术简介 | 第38-42页 |
| ·MOCVD 技术概述及特点 | 第38-39页 |
| ·MOCVD 法的设备结构 | 第39-41页 |
| ·MOCVD 法生长外延膜的生长过程 | 第41-42页 |
| ·光辅助 MOCVD 法 | 第42-45页 |
| ·本文生长 YBCO 外延膜所使用的两种光辅助 MOCVD 系统 | 第45-50页 |
| ·生长 YBCO 外延膜所使用的金属有机源 | 第45-46页 |
| ·三路有机源光辅助 MOCVD 系统 | 第46-49页 |
| ·六路有机源光辅助 MOCVD 系统 | 第49-50页 |
| ·YBCO 外延生长的特点 | 第50-54页 |
| ·YBCO 外延膜生长所需要的衬底和生长过程 | 第54-58页 |
| ·生长 YBCO 外延膜所需的衬底材料 | 第54-55页 |
| ·，YBCO 外延膜的生长过程 | 第55-58页 |
| 第三章 Cu 源比例变化对 YBCO 外延膜的影响 | 第58-84页 |
| ·Cu 有机源比例变化对 YBCO 外延膜影响的实验设计及实验结果 | 第59-63页 |
| ·Cu 源比例变化对 YBCO 外延膜的垂直取向的影响 | 第63-65页 |
| ·Cu 源比例变化对 YBCO 外延膜表面形貌的影响 | 第65-71页 |
| ·MOCVD 法制备的 YBCO 外延膜表面山头的问题 | 第65-66页 |
| ·MOCVD 法制备的 YBCO 外延膜表面山头的形成过程 | 第66-69页 |
| ·Cu 源比例变化对 YBCO 外延膜表面形貌的影响 | 第69-71页 |
| ·Cu 源比例变化对 YBCO 外延膜截面形貌的及生长速度影响 | 第71-74页 |
| ·Cu 源比例变化对 YBCO 外延膜截面形貌的影响 | 第71-72页 |
| ·Cu 源比例变化对 YBCO 外延膜生长速度的影响 | 第72-74页 |
| ·Cu 源比例变化对 YBCO 外延膜组份的影响 | 第74-79页 |
| ·YBCO 外延膜组份含量的变化 | 第74-75页 |
| ·XPS 定量测试 YBCO 外延膜组份存在的问题 | 第75-79页 |
| ·Cu 源比例变化对 YBCO 外延膜体内杂相的影响 | 第79-80页 |
| ·Cu 源比例变化对 YBCO 外延膜 Jc的影响 | 第80-82页 |
| ·本章小结 | 第82-84页 |
| 第四章 光照退火对 YBCO 外延膜吸氧及脱氧的影响 | 第84-110页 |
| ·光照处理电子材料的普遍特点 | 第84-86页 |
| ·实验过程 | 第86-88页 |
| ·实验结果及讨论 | 第88-96页 |
| ·光照退火对 YBCO 外延膜吸氧速度的影响 | 第90-94页 |
| ·光照退火对 YBCO 外延膜脱氧速度的影响 | 第94-95页 |
| ·光照退火对不同温度下 YBCO 外延膜氧含量的影响 | 第95-96页 |
| ·光照退火对 YBCO 外延膜吸氧及脱氧影响的原因 | 第96-99页 |
| ·光照退火对 YBCO 外延膜吸氧及脱氧作用的动力学分析 | 第96-99页 |
| ·光照退火对 YBCO 外延膜吸氧及脱氧作用的热力学分析 | 第99页 |
| ·使用 XRD 测试的方法来标定 YBCO 外延膜的氧含量 | 第99-107页 |
| ·使用 XRD 测试确定 YBCO 外延膜氧含量变化的实验方法 | 第100-104页 |
| ·使用 XRD 测试确定 YBCO 外延膜氧含量变化过程中的两个问题 | 第104-107页 |
| ·本章小结 | 第107-110页 |
| 第五章 光辅助 MOCVD 法在 Ni 带衬底上生长 YBCO 外延膜的初步研究 | 第110-128页 |
| ·Ni 带衬底上 YBCO 外延膜的光辅助 MOCVD 法生长过程 | 第112-114页 |
| ·Ni 衬底及 LAO 衬底上 YBCO 外延膜的生长温度分析 | 第114-120页 |
| ·YBCO 外延膜 c 轴取向及 a 轴取向形成的热力学分析 | 第120-123页 |
| ·Ni 衬底及 LAO 衬底上 c 轴取向 YBCO 外延膜的生长速度分析 | 第123-124页 |
| ·Ni 衬底及 LAO 衬底上 c 轴取向 YBCO 外延膜的面内取向及超导电流承载能力分析 | 第124-126页 |
| ·本章小结 | 第126-128页 |
| 结论及创新点 | 第128-132页 |
| 参考文献 | 第132-146页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第146-148页 |
| 致谢 | 第148页 |
