多弧离子镀膜生产过程智能控制系统的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-14页 |
| ·课题的研究背景与意义 | 第9-10页 |
| ·离子镀国内外研究现状 | 第10-12页 |
| ·研究内容及论文结构 | 第12-14页 |
| 第二章 多弧离子镀工艺分析 | 第14-21页 |
| ·真空镀膜技术概论 | 第14-16页 |
| ·真空镀膜技术 | 第14页 |
| ·真空镀膜技术分类 | 第14页 |
| ·真空离子镀膜 | 第14-16页 |
| ·多弧离子镀 | 第16-20页 |
| ·多弧离子镀膜主要设备及工艺 | 第16-17页 |
| ·多弧离子镀的技术特点 | 第17页 |
| ·多弧离子镀工艺参数 | 第17-20页 |
| ·小结 | 第20-21页 |
| 第三章 智能控制策略研究与仿真 | 第21-29页 |
| ·基体温度控制 | 第21-26页 |
| ·温控对象的数学模型分析 | 第21-24页 |
| ·数学模型 | 第24-26页 |
| ·控制方案 | 第26-28页 |
| ·小结 | 第28-29页 |
| 第四章 粒子群优化 PID 控制器的设计 | 第29-42页 |
| ·粒子群算法介绍 | 第29-32页 |
| ·来源和背景 | 第29-32页 |
| ·粒子群算法的特点 | 第32页 |
| ·基于粒子群的 PID 控制参数优化 | 第32-36页 |
| ·利用 Z-N 法获得 PID 参数的原始值 | 第32-33页 |
| ·基于粒子群优化的 PID 控制系统 | 第33-34页 |
| ·仿真模型的建立 | 第34-35页 |
| ·优化设计过程 | 第35-36页 |
| ·粒子群算法的实现 | 第36页 |
| ·MATLAB 程序设计 | 第36-39页 |
| ·Simulink 部分程序的实现 | 第36-37页 |
| ·PSO 部分程序实现 | 第37-39页 |
| ·多温区自动切换及其仿真研究 | 第39-41页 |
| ·小结 | 第41-42页 |
| 第五章 真空室温度模糊-PID 复合控制器设计 | 第42-54页 |
| ·模糊控制的基本原理 | 第42-43页 |
| ·模糊控制器设计步骤 | 第43-47页 |
| ·真空室温度模糊-PID 控制系统设计 | 第47-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 第六章 氮气和氩气流量控制 | 第54-66页 |
| ·比值控制系统概述 | 第54-58页 |
| ·比值控制原理 | 第54-58页 |
| ·比值系数的计算 | 第58页 |
| ·控制方法及控制原理 | 第58-65页 |
| ·双闭环比值系统仿真研究 | 第59-65页 |
| ·小结 | 第65-66页 |
| 第七章 系统软硬件的设计与实现 | 第66-73页 |
| ·系统结构 | 第66页 |
| ·下位机设计 | 第66-69页 |
| ·PLC 硬件组态 | 第66-68页 |
| ·PLC 软件设计 | 第68-69页 |
| ·上位机监控系统设计 | 第69-72页 |
| ·MCGS 组态软件介绍 | 第69-70页 |
| ·典型界面组态 | 第70-72页 |
| ·系统运行框图 | 第72页 |
| ·小结 | 第72-73页 |
| 总结与展望 | 第73-74页 |
| 研究工作总结 | 第73页 |
| 未来的工作展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-77页 |
| 附录 | 第77-82页 |
| 攻读学位期间主要的研究成果 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
