FAIMS传感器的设计与研制
摘要 | 第1-12页 |
ABSTRACT | 第12-14页 |
第1章 绪论 | 第14-21页 |
·研究的背景及意义 | 第14-17页 |
·国内外研究现状 | 第17-18页 |
·FAIMS在糖尿病检测上的应用 | 第18-19页 |
·呼吸气体与疾病的关系 | 第18页 |
·糖尿病酮症酸中毒 | 第18-19页 |
·论文的主要研究内容 | 第19-21页 |
第2章 FAIMS技术的的基本原理 | 第21-26页 |
·离子迁移率 | 第21-23页 |
·FAIMS模型的基本结构 | 第23-25页 |
·本章小结 | 第25-26页 |
第3章 FAIMS离子迁移区设计 | 第26-36页 |
·MEMS技术介绍 | 第26-27页 |
·基于MEMS的离子迁移区设计 | 第27-35页 |
·MEMS离子迁移区的优势 | 第27-28页 |
·迁移区内的击穿电压 | 第28-29页 |
·迁移区平行电极板的形变分析 | 第29-33页 |
·形变量的理论分析与计算 | 第29-31页 |
·形变量的有限元仿真 | 第31-33页 |
·迁移区的共振频率分析 | 第33-35页 |
·本章小结 | 第35-36页 |
第4章 FAIMS的离子源与检测系统 | 第36-43页 |
·FAIMS离子源 | 第36-39页 |
·FAIMS系统对离子源的要求 | 第36-37页 |
·常用的电离方法 | 第37-39页 |
·放射性元素电离法 | 第37页 |
·光致电离法 | 第37-38页 |
·电喷射电离法 | 第38页 |
·电晕放电电离法 | 第38-39页 |
·FAIMS检测系统 | 第39-42页 |
·电荷检测器 | 第40-41页 |
·微电流检测电路 | 第41-42页 |
·本章小结 | 第42-43页 |
第5章 FAIMS传感器芯片离子迁移区的制作 | 第43-62页 |
·ICP刻蚀 | 第43-46页 |
·ICP产生装置的结构 | 第43-44页 |
·ICP刻蚀机理 | 第44-46页 |
·FAIMS离子迁移区版图设计 | 第46-57页 |
·L-edit介绍 | 第47-48页 |
·L-edit的图形界面 | 第47-48页 |
·L-edit的特点 | 第48页 |
·使用L-edit进行版图绘制 | 第48-57页 |
·叉指形离子迁移区设计结构与参数 | 第48-50页 |
·版图绘制 | 第50-57页 |
·FAIMS传感器加工流程 | 第57-61页 |
·半导体光刻技术 | 第57-58页 |
·加工流程 | 第58-61页 |
·光刻对准标记 | 第58-59页 |
·光刻金属电极 | 第59-60页 |
·离子迁移区的光刻与刻蚀 | 第60-61页 |
·本章小结 | 第61-62页 |
第6章 总结与展望 | 第62-64页 |
·论文总结 | 第62-63页 |
·未来工作及展望 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-67页 |
致谢 | 第67-68页 |
附录A ANSYS软件仿真程序命令流 | 第68-73页 |
A.1 离子迁移区极板长度为2mm时的命令流 | 第68-70页 |
A.2 离子迁移区极板长度为5mm时的命令流 | 第70-73页 |
学位论文评阅及答辩情况表 | 第73页 |