基于磁控溅射技术的AT切石英晶体谐振器调频工艺研究

摘要	第1-4页
Abstract	第4-8页
1 引言	第8-14页
·石英晶体压电效应与石英晶体谐振器	第8-12页
·石英晶体谐振器的发展历史	第8-9页
·石英晶体的压电效应	第9-10页
·石英晶体谐振器的结构	第10页
·石英晶体谐振器的等效电路与符号	第10-11页
·石英晶体谐振器的切型及AT切石英晶体	第11页
·石英晶体谐振器的生产流程	第11-12页
·论文的主要内容与研究方法	第12-13页
·论文研究的目的与意义	第13页
·本章小结	第13-14页
2 石英晶体谐振器的电极制备技术	第14-31页
·石英晶体谐振器的电极制备工艺	第14-23页
·真空蒸发镀膜工艺	第14-16页
·磁控溅射镀膜工艺	第16-21页
·磁控溅射薄膜的形成过程和结构特点	第21-23页
·磁控溅射法制备石英晶体谐振器电极的可行性分析	第23页
·石英晶体谐振器的频率微调技术	第23-28页
·真空蒸发频率微调技术	第24-25页
·离子束刻蚀频率微调技术	第25-26页
·激光刻蚀频率微调技术	第26-27页
·磁控溅射频率微调技术	第27-28页
·石英晶体谐振器的频率监测技术	第28-30页
·本章小结	第30-31页
3 石英晶体谐振器电极制备实验设计与工艺参数分析	第31-47页
·实验设备与研究方法	第31-34页
·磁控溅射真空镀膜设备简介	第31-32页
·实验设计方案与考虑的问题	第32页
·实验方法与操作步骤	第32-34页
·石英晶体谐振器电极薄膜检测方法	第34-35页
·台阶仪膜厚检测方法	第34-35页
·XRD薄膜晶体结构检测方法	第35页
·SEM薄膜表面形貌检测方法	第35页
·磁控溅射工艺参数对电极薄膜沉积速率的影响	第35-40页
·溅射气压对Ag薄膜沉积速率的影响	第36-37页
·溅射功率对Ag薄膜沉积速率的影响	第37-38页
·靶基距对Ag薄膜沉积速率的影响	第38-39页
·电源占空比对Ag薄膜沉积速率的影响	第39-40页
·磁控溅射工艺参数对电极薄膜晶体结构的影响	第40-46页
·溅射气压对Ag薄膜晶体结构的影响	第41-42页
·靶基距对Ag薄膜晶体结构的影响	第42-43页
·溅射功率对Ag薄膜晶体结构的影响	第43-45页
·电源占空比对Ag薄膜晶体结构的影响	第45-46页
·本章小结	第46-47页
4 AT切石英晶体谐振器调频工艺的实现	第47-58页
·AT切石英晶体谐振器谐振频率微调原理	第47-50页
·AT切石英晶体谐振器的谐振频率和动态参数	第47-49页
·AT切石英晶体谐振器频率微调原理	第49-50页
·AT切石英晶体谐振器的电极设计	第50-53页
·电极材料的选取原则	第50-51页
·电极尺寸的设计原则	第51页
·电极薄膜厚度的选取原则	第51-52页
·10MHz AT切石英晶体谐振器电极尺寸的确定	第52-53页
·10MHz AT切石英晶体谐振器调频实验分析	第53-57页
·频率粗调工艺设计	第53-55页
·频率微调工艺设计	第55-56页
·石英晶体谐振器电极制备工艺实验误差分析	第56-57页
·本章小结	第57-58页
5 石英晶体谐振器在线频率监测电路设计	第58-71页
·基于FPGA的等精度频率采集电路设计方法	第58-66页
·基于QuartusⅡ平台的测频算法设计思路	第60-65页
·基于等精度测频算法的仿真	第65-66页
·等精度频率采集电路的PCB设计	第66-69页
·测频系统JTAG和AS下载模式管脚配置	第66-68页
·PCB布局布线设计规则	第68-69页
·实验数据分析	第69-70页
·本章小结	第70-71页
6 结论与展望	第71-74页
·结论	第71-72页
·课题展望	第72-74页
致谢	第74-75页
参考文献	第75-77页