| 中文摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-16页 |
| ·低温多晶硅及金属横向诱导薄膜多晶硅(MILC-TFT)简介 | 第7-11页 |
| ·低温多晶硅简介 | 第7-8页 |
| ·金属诱导横向晶化(MILC)技术 | 第8-9页 |
| ·实验样品制备 | 第9-11页 |
| ·本论文工作的研究基础 | 第11-14页 |
| ·自加热效应的前期研究 | 第11-13页 |
| ·热载流子退化的前期研究 | 第13-14页 |
| ·本论文工作的基本内容 | 第14-16页 |
| 第二章 自加热应力退化研究与机制分析 | 第16-42页 |
| ·实验条件及器件参数提取 | 第17页 |
| ·实验结果与讨论 | 第17-31页 |
| ·退化的特征 | 第17-25页 |
| ·场效应迁移率的异常退化 | 第25-31页 |
| ·自加热应力的有限元模拟分析 | 第31-37页 |
| ·有限元热分析模型的建立 | 第32-34页 |
| ·器件沟道温度分布 | 第34-37页 |
| ·直流自加热退化的机制分析 | 第37-40页 |
| ·本章结论 | 第40-42页 |
| 第三章 交流应力下热载流子退化研究 | 第42-57页 |
| ·实验结果与讨论 | 第42-51页 |
| ·退化的一般性特征 | 第43-44页 |
| ·交流退化与上升、下降沿的关系 | 第44-46页 |
| ·交流退化与周期、脉冲个数的关系 | 第46-48页 |
| ·交流退化与基准电压及脉冲高度的关系 | 第48-51页 |
| ·交流应力的退化模型讨论 | 第51-55页 |
| ·本章结论 | 第55-57页 |
| 第四章 总结及下一步工作 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 详细摘要 | 第65-67页 |