| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-14页 |
| ·研究背景 | 第9-11页 |
| ·研究现状和目的 | 第11-13页 |
| 参考文献 | 第13-14页 |
| 第二章 理论基础 | 第14-27页 |
| ·交换偏置的基本定义 | 第14页 |
| ·交换偏置的理论模型 | 第14-17页 |
| ·Meiklejohn—Bean模型 | 第14-16页 |
| ·平行界面的反铁磁畴壁 | 第16页 |
| ·Maiozemoff随机场模型 | 第16-17页 |
| ·动态磁性参数 | 第17-19页 |
| ·复磁导率 | 第17-18页 |
| ·品质因数Q值 | 第18页 |
| ·材料的磁损耗角正切tgδ | 第18-19页 |
| ·材料的μQ积 | 第19页 |
| ·软磁材料的动态磁化机制 | 第19-20页 |
| ·磁滞回线的形状 | 第19-20页 |
| ·铁磁有序(居里)温度 | 第20页 |
| ·软磁材料的损耗机制 | 第20-24页 |
| ·涡流损耗 | 第21-23页 |
| ·磁滞损耗 | 第23-24页 |
| ·剩余损耗 | 第24页 |
| ·软磁材料的设计要求 | 第24-26页 |
| 参考文献 | 第26-27页 |
| 第三章 样品的制备与测量方法 | 第27-43页 |
| ·样品的制备 | 第27-34页 |
| ·磁控溅射的基本原理 | 第27-30页 |
| ·高真空旋转基底六靶磁控溅射系统的调试 | 第30-32页 |
| ·溅射工艺参数的选择 | 第32-34页 |
| ·测试方法 | 第34-42页 |
| ·微结构与物相分析 | 第34-35页 |
| ·磁性测量 | 第35-37页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第37-38页 |
| ·高频磁导率的测量 | 第38-42页 |
| 参考文献 | 第42-43页 |
| 第四章 Cu/FeCoSi双层膜的制备和性能研究 | 第43-50页 |
| ·磁控溅射方法制备Cu/FeCoSi薄膜 | 第43页 |
| ·种子层对FeCoSi薄膜磁性的影响 | 第43-46页 |
| ·退火对Cu/FeCoSi薄膜结构及磁性的影响 | 第46-48页 |
| ·微结构 | 第46-47页 |
| ·退火对薄膜磁性的影响 | 第47-48页 |
| ·薄膜的高频软磁特性 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |
| 第五章 FeCoSi/MnIr/FeCoSi纳米多层膜的制备和性能研究 | 第50-65页 |
| ·FeCoSi/MnIr/FeCoSi多层膜的微结构 | 第50-52页 |
| ·FeCoSi/MnIr/FeCoSi纳米多层膜的静态磁性 | 第52-57页 |
| ·FeCoSi/MnIr/FeCoSi纳米多层膜的高频特性 | 第57-59页 |
| ·铁磁—反铁磁交换耦合对薄膜微波频率的调控作用 | 第59-64页 |
| 参考文献 | 第64-65页 |
| 第六章 结论 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
