| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-16页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·硅纳米线的发展方向、制备工艺和应用研究 | 第7-13页 |
| ·纳米硅材料在微电子材料中的地位和发展方向 | 第7-8页 |
| ·硅纳米线的制备工艺和生长机理综述 | 第8-12页 |
| ·硅纳米线的应用 | 第12-13页 |
| ·ZnO 材料的发展方向、制备工艺和应用研究 | 第13-14页 |
| ·ZnO 材料的发展方向 | 第13页 |
| ·一维ZnO 纳米线的制备 | 第13-14页 |
| ·一维ZnO 纳米线的应用 | 第14页 |
| ·本课题研究的意义及内容 | 第14-16页 |
| 第二章 测试表证方法基本原理简介 | 第16-18页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第16页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第16-17页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第17页 |
| ·光致发光(PL) | 第17-18页 |
| 第三章 硅纳米线的制备及光致发光特性 | 第18-25页 |
| ·引言 | 第18-19页 |
| ·实验装置 | 第19页 |
| ·实验过程 | 第19页 |
| ·样品表征 | 第19-20页 |
| ·结果分析和讨论 | 第20-23页 |
| ·生长机理 | 第20页 |
| ·生长结构 | 第20-22页 |
| ·X 射线衍射谱 | 第22-23页 |
| ·光致发光谱 | 第23页 |
| ·本章小结 | 第23-25页 |
| 第四章 氧化锌纳米线的制备及光致发光特性 | 第25-32页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·实验装置 | 第25-26页 |
| ·实验过程 | 第26页 |
| ·样品表征 | 第26页 |
| ·结果分析和讨论 | 第26-31页 |
| ·生长结构 | 第26-28页 |
| ·X 射线衍射谱 | 第28-29页 |
| ·光致发光 | 第29-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第五章 纳/微米尺度的 Si/ZnO 异质结的制备及生长机制研究 | 第32-36页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·实验过程 | 第32-33页 |
| ·生长结构分析与讨论 | 第33-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第六章 论文总结 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-44页 |
| 致谢 | 第44-45页 |