| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-14页 |
| ·论文的研究背景和意义 | 第11-12页 |
| ·论文的主要研究内容 | 第12-13页 |
| ·论文的主要研究结果 | 第13-14页 |
| 第二章 TiO_2薄膜的制备及可见光催化性研究 | 第14-27页 |
| ·TiO_2 的晶体结构和光催化性介绍 | 第14-19页 |
| ·TiO_2 的晶体结构 | 第14-15页 |
| ·TiO_2 的能带结构 | 第15-16页 |
| ·TiO_2 光催化原理 | 第16-18页 |
| ·TiO_2 光催化特性的研究发展 | 第18-19页 |
| ·TiO_2 薄膜的制备方法简介 | 第19-22页 |
| ·化学气相沉积（CVD）法 | 第19-20页 |
| ·液相沉积法 | 第20页 |
| ·物理气相沉积（PVD）法 | 第20页 |
| ·原子层沉积法（ALD） | 第20-21页 |
| ·激光辅助分子束沉积法（LAMBD） | 第21页 |
| ·电化学制备法 | 第21页 |
| ·溶胶－凝胶（Sol-Gel）法 | 第21-22页 |
| ·水热法 | 第22页 |
| ·掺氮TiO_2 薄膜的制备方法简介 | 第22-26页 |
| ·溅射法制备掺氮TiO_2 | 第23-24页 |
| ·脉冲激光沉积（PLD） | 第24页 |
| ·胺盐与TiO_2 胶体反应 | 第24页 |
| ·加热法 | 第24-25页 |
| ·机械化学法 | 第25页 |
| ·加热含Ti、N 有机前驱体 | 第25页 |
| ·等离子体处理法 | 第25页 |
| ·离子注入法 | 第25-26页 |
| ·其它制备方法 | 第26页 |
| ·结论 | 第26-27页 |
| 第三章 不同制备条件下TiO_2薄膜的光学性能 | 第27-50页 |
| ·引言 | 第27页 |
| ·实验方法 | 第27-29页 |
| ·磁控溅射技术简介及TiO_2 薄膜的制备 | 第27-28页 |
| ·TiO_2 薄膜样品的退火处理 | 第28-29页 |
| ·TiO_2 薄膜样品的水热处理 | 第29页 |
| ·主要分析方法 | 第29-31页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第29-30页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第30页 |
| ·X 射线光电子能谱（XPS） | 第30页 |
| ·紫外-可见吸收光谱分析（UV-Vis） | 第30页 |
| ·Eg 值的计算 | 第30-31页 |
| ·实验结果分析 | 第31-49页 |
| ·不同基底温度下制备的TiO_2 薄膜 | 第31-35页 |
| ·不同氧分压下制备的TiO_2 薄膜 | 第35-39页 |
| ·退火温度对TiO_2 薄膜光学性能的影响 | 第39-44页 |
| ·不同水热处理温度对TiO_2 薄膜光学性能的影响 | 第44-49页 |
| ·结论 | 第49-50页 |
| 第四章 N 掺杂对TiO_2薄膜光学性能的影响 | 第50-60页 |
| ·引言 | 第50-51页 |
| ·N 离子的注入掺杂 | 第51-53页 |
| ·实验与结果分析 | 第53-59页 |
| ·N 掺杂对不同基体温度下制备的TiO_2 薄膜光学性能的影响 | 第53-56页 |
| ·N 离子掺杂对不同氧分压下制备的TiO_2 薄膜光学性能的影响 | 第56-59页 |
| ·结论 | 第59-60页 |
| 第五章 结论 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第67-68页 |
