磁控溅射法制备优质氮化镓衬底生长用缓冲层氧化锌薄膜

摘要	第1-5页
ABSTRACT	第5-9页
第1章 绪论	第9-25页
·课题背景	第9-15页
·氮化镓衬底生长缓冲层的必要性及材料选择	第15-17页
·氧化锌薄膜的基本性质、应用和制备方法	第17-22页
·氧化锌的基本性质	第18-19页
·氧化锌薄膜的应用	第19-20页
·氧化锌薄膜的制备方法	第20-22页
·国内外研究现状	第22-23页
·本课题主要研究内容	第23-25页
第2章 氧化锌缓冲层薄膜的制备与表征	第25-32页
·氧化锌缓冲层薄膜的制备	第25-29页
·磁控溅射系统	第26-27页
·氧化锌缓冲层薄膜的制备过程	第27-29页
·检测分析方法	第29-31页
·X射线衍射仪	第29页
·扫描电子显微镜	第29-30页
·光致发光光谱	第30页
·台阶仪	第30-31页
·原子力显微镜	第31页
·本章小结	第31-32页
第3章 工艺参数对氧化锌薄膜结构和质量的影响	第32-48页
·SEM 形貌分析	第32-33页
·正交实验参数对薄膜性能的影响	第33-47页
·氧氩气体流量比对氧化锌薄膜性能的影响	第35-38页
·溅射气压对氧化锌薄膜性能的影响	第38-42页
·溅射时间对氧化锌薄膜性能的影响	第42-43页
·溅射温度对氧化锌薄膜性能的影响	第43-47页
·本章小结	第47-48页
第4章 退火对氧化锌薄膜性能的影响	第48-54页
·退火对氧化锌薄膜结构及结晶性能的影响	第49-51页
·退火对光致发光性能的影响	第51-52页
·退火对表面形貌的影响	第52页
·本章小结	第52-54页
结论	第54-55页
参考文献	第55-62页
致谢	第62页