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小分子在石墨烯及C3N4表界面上扩散与反应的第一性原理研究

致谢第5-6页
摘要第6-8页
Abstract第8-9页
1 研究背景与文献综述第13-31页
    1.1 引言第13-14页
    1.2 石墨烯的结构、性质和制备第14-17页
        1.2.1 石墨烯的结构第14-15页
        1.2.2 石墨烯的性质第15页
        1.2.3 石墨烯的制备第15-17页
    1.3 石墨烯透过性的研究进展第17-20页
    1.4 石墨烯褶皱性质的研究进展第20-22页
    1.5 石墨烯/金属界面对反应活性影响的研究进展第22-24页
    1.6 C_3N_4的结构、性质和制备第24-26页
        1.6.1 C_3N_4的结构第24-25页
        1.6.2 C_3N_4的性质第25页
        1.6.3 C_3N_4的制备第25-26页
    1.7 苯酚选择性氢化的研究进展第26-28页
    1.8 选题意义和本论文工作第28-31页
2 理论计算方法第31-45页
    2.1 引言第31-32页
    2.2 密度泛函理论基础第32-36页
        2.2.1 Schrodinger方程第32-33页
        2.2.2 密度泛函理论-从波函数到电子密度第33-36页
        2.2.3 交换相关泛函第36页
    2.3 DFT计算的基本要素第36-41页
        2.3.1 倒易空间和k点第37-39页
        2.3.2 能量截断第39-41页
    2.4 过渡态搜索第41-45页
        2.4.1 Elastic Band方法第42页
        2.4.2 Nudged Elastic Band方法第42-45页
3 石墨烯褶皱及铜基底对氧原子穿越的影响第45-59页
    3.1 引言第45页
    3.2 模型构建和计算细节第45-46页
    3.3 氧原子在平面石墨烯和褶皱上的吸附第46-49页
        3.3.1 氧原子的物理吸附第46-48页
        3.3.2 氧原子的化学吸附第48-49页
    3.4 氧原子可能穿越路径的探索第49-51页
    3.5 褶皱曲率对氧原子穿越能垒的影响第51-54页
    3.6 铜基底对氧原子穿越能垒的影响第54-56页
    3.7 氧原子对铜基底上石墨烯成核位点的影响第56-58页
    3.8 本章小结第58-59页
4 水分子在石墨烯/铜表界面的迁移和分解第59-79页
    4.1 引言第59页
    4.2 模型构建和计算细节第59-61页
    4.3 石墨烯边界的去耦合第61-63页
    4.4 水分子先迁移再分解第63-66页
        4.4.1 水分子迁移进入石墨烯/铜界面路径的研究第63-64页
        4.4.2 水分子在石墨烯/铜界面的分解第64-65页
        4.4.3 分解产生的氢原子吸附位点的研究第65-66页
    4.5 水分子先分解再迁移第66-70页
        4.5.1 水分子在铜表面和石墨烯边界铜表面上的分解第66-69页
        4.5.2 分解产生的OH和H迁移进入石墨烯/铜界面路径的研究第69-70页
    4.6 水分子两条分解、迁移路径的对比第70-71页
    4.7 石墨烯/铜界面相比于铜表面更容易分解水的机理研究第71-73页
    4.8 褶皱对石墨烯/Cu界面分解水的影响第73-75页
    4.9 氧原子对石墨烯/Cu界面分解水的影响第75-76页
    4.10 本章小结第76-79页
5 苯酚在Pd@C_3N_4表面选择性氢化的研究第79-99页
    5.1 引言第79页
    5.2 模型构建和计算细节第79-82页
    5.3 苯酚及其氢化产物在C_3N_4和Pd@C_3N_4上的吸附第82-85页
    5.4 1-cyclohexen-l-ol的异构化第85-87页
    5.5 1-cyclohexen-1-ol和环己酮的氢化第87-89页
    5.6 1-cyclohexen-l-ol不同反应路径的对比第89-90页
    5.7 Pd原子影响反应的作用机制第90-96页
    5.8 本章小结第96-99页
6 总结与展望第99-103页
    6.1 总结第99-100页
    6.2 展望第100-103页
参考文献第103-117页
攻读学位期间发表论文第117页

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