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MEMS惯性开关接触增强方法和抗过载机制研究

摘要第3-5页
ABSTRACT第5-8页
第一章 绪论第11-51页
    1.1 MEMS惯性开关的研究背景第11-14页
        1.1.1 微机电系统(MEMS)概述第11页
        1.1.2 MEMS的发展阶段第11-13页
        1.1.3 MEMS技术的应用第13页
        1.1.4 MEM惯性传感器简介第13-14页
    1.2 MEMS惯性开关和其性能参数第14-16页
        1.2.1 MEMS惯性开关简介第14-15页
        1.2.2 MEMS惯性开关的性能参数第15-16页
    1.3 MEMS相关制造技术第16-17页
    1.4 MEMS惯性开关的发展史第17-39页
        1.4.1 国外研究现状第17-26页
        1.4.2 国内研究现状第26-39页
    1.5 本文的研究意义以及主要内容第39-43页
    参考文献第43-51页
第二章 接触增强和高抗过载MEMS惯性开关结构设计第51-109页
    2.1 MEMS惯性开关的基本物理模型第52-55页
    2.2 MEMS惯性开关的性能参数分析第55-63页
        2.2.1 阈值加速度讨论第56-58页
        2.2.2 响应时间分析第58-60页
        2.2.3 接触时间讨论第60-63页
    2.3 MEMS惯性开关的柔性接触机制分析第63-68页
    2.4 垂直驱动接触增强的MEMS惯性开关设计与优化第68-78页
        2.4.1 十字交叉梁柔性固定电极刚度的计算第70-73页
        2.4.2 MEMS惯性开关仿真计算第73-78页
    2.5 水平驱动MEMS惯性开关设计与优化第78-89页
        2.5.1 两电极间距和过载加速度对响应时间的影响第80-83页
        2.5.2 限位紧密约束结构的功能第83-84页
        2.5.3 可动电极L型悬臂梁的应力分布第84-86页
        2.5.4 加速度载荷脉宽对响应时间和接触时间的影响第86-89页
    2.6 水平驱动具有同步跟随电极的MEMS惯性开关第89-94页
        2.6.1 同步跟随电极对接触时间的影响第90-92页
        2.6.2 限位紧密约束结构对接触弹跳行为的影响第92-94页
    2.7 惯性开关在敏感反方向高g加速下抗过载能力研究第94-101页
        2.7.1 物理模型和理论分析第95-98页
        2.7.2 惯性开关抗过载仿真分析第98-101页
    2.8 本章小结第101-104页
    参考文献第104-109页
第三章 接触增强和高抗过载MEMS惯性开关制作工艺研究第109-130页
    3.1 MEMS惯性开关的工艺路线设计第109-110页
    3.2 惯性开关的工艺制造难点第110-114页
    3.3 主要工艺研究第114-121页
        3.3.1 玻璃基板的清洗第114-115页
        3.3.2 溅射工艺第115-116页
        3.3.3 光刻工艺第116-118页
        3.3.4 电镀工艺第118-119页
        3.3.5 释放工艺第119-121页
    3.4 工艺流程第121-127页
    3.5 本章小结第127-129页
    参考文献第129-130页
第四章 MEMS惯性开关的接触增强和抗过载性能测试第130-149页
    4.1 接触增强和高抗过载MEMS惯性开关特性测试第130-146页
        4.1.1 实验设备和测试原理第130-132页
        4.1.2 MEMS惯性开关的阈值加速度和接触时间测试第132-140页
        4.1.3 惯性开关的抗过载性能测试第140-145页
        4.1.4 惯性开关的接触电阻测试第145-146页
    4.2 本章小结第146-148页
    参考文献第148-149页
第五章 总结与展望第149-154页
致谢第154-156页
攻读博士学位期间发表的学术论文第156-159页

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