| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-51页 |
| 1.1 MEMS惯性开关的研究背景 | 第11-14页 |
| 1.1.1 微机电系统(MEMS)概述 | 第11页 |
| 1.1.2 MEMS的发展阶段 | 第11-13页 |
| 1.1.3 MEMS技术的应用 | 第13页 |
| 1.1.4 MEM惯性传感器简介 | 第13-14页 |
| 1.2 MEMS惯性开关和其性能参数 | 第14-16页 |
| 1.2.1 MEMS惯性开关简介 | 第14-15页 |
| 1.2.2 MEMS惯性开关的性能参数 | 第15-16页 |
| 1.3 MEMS相关制造技术 | 第16-17页 |
| 1.4 MEMS惯性开关的发展史 | 第17-39页 |
| 1.4.1 国外研究现状 | 第17-26页 |
| 1.4.2 国内研究现状 | 第26-39页 |
| 1.5 本文的研究意义以及主要内容 | 第39-43页 |
| 参考文献 | 第43-51页 |
| 第二章 接触增强和高抗过载MEMS惯性开关结构设计 | 第51-109页 |
| 2.1 MEMS惯性开关的基本物理模型 | 第52-55页 |
| 2.2 MEMS惯性开关的性能参数分析 | 第55-63页 |
| 2.2.1 阈值加速度讨论 | 第56-58页 |
| 2.2.2 响应时间分析 | 第58-60页 |
| 2.2.3 接触时间讨论 | 第60-63页 |
| 2.3 MEMS惯性开关的柔性接触机制分析 | 第63-68页 |
| 2.4 垂直驱动接触增强的MEMS惯性开关设计与优化 | 第68-78页 |
| 2.4.1 十字交叉梁柔性固定电极刚度的计算 | 第70-73页 |
| 2.4.2 MEMS惯性开关仿真计算 | 第73-78页 |
| 2.5 水平驱动MEMS惯性开关设计与优化 | 第78-89页 |
| 2.5.1 两电极间距和过载加速度对响应时间的影响 | 第80-83页 |
| 2.5.2 限位紧密约束结构的功能 | 第83-84页 |
| 2.5.3 可动电极L型悬臂梁的应力分布 | 第84-86页 |
| 2.5.4 加速度载荷脉宽对响应时间和接触时间的影响 | 第86-89页 |
| 2.6 水平驱动具有同步跟随电极的MEMS惯性开关 | 第89-94页 |
| 2.6.1 同步跟随电极对接触时间的影响 | 第90-92页 |
| 2.6.2 限位紧密约束结构对接触弹跳行为的影响 | 第92-94页 |
| 2.7 惯性开关在敏感反方向高g加速下抗过载能力研究 | 第94-101页 |
| 2.7.1 物理模型和理论分析 | 第95-98页 |
| 2.7.2 惯性开关抗过载仿真分析 | 第98-101页 |
| 2.8 本章小结 | 第101-104页 |
| 参考文献 | 第104-109页 |
| 第三章 接触增强和高抗过载MEMS惯性开关制作工艺研究 | 第109-130页 |
| 3.1 MEMS惯性开关的工艺路线设计 | 第109-110页 |
| 3.2 惯性开关的工艺制造难点 | 第110-114页 |
| 3.3 主要工艺研究 | 第114-121页 |
| 3.3.1 玻璃基板的清洗 | 第114-115页 |
| 3.3.2 溅射工艺 | 第115-116页 |
| 3.3.3 光刻工艺 | 第116-118页 |
| 3.3.4 电镀工艺 | 第118-119页 |
| 3.3.5 释放工艺 | 第119-121页 |
| 3.4 工艺流程 | 第121-127页 |
| 3.5 本章小结 | 第127-129页 |
| 参考文献 | 第129-130页 |
| 第四章 MEMS惯性开关的接触增强和抗过载性能测试 | 第130-149页 |
| 4.1 接触增强和高抗过载MEMS惯性开关特性测试 | 第130-146页 |
| 4.1.1 实验设备和测试原理 | 第130-132页 |
| 4.1.2 MEMS惯性开关的阈值加速度和接触时间测试 | 第132-140页 |
| 4.1.3 惯性开关的抗过载性能测试 | 第140-145页 |
| 4.1.4 惯性开关的接触电阻测试 | 第145-146页 |
| 4.2 本章小结 | 第146-148页 |
| 参考文献 | 第148-149页 |
| 第五章 总结与展望 | 第149-154页 |
| 致谢 | 第154-156页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第156-159页 |
