| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| §1.1 微流控芯片技术 | 第8-10页 |
| §1.2 黑硅的制备 | 第10-13页 |
| §1.3 表面增强拉曼散射技术 | 第13-19页 |
| 第二章 黑硅微流控芯片的制备 | 第19-27页 |
| §2.1 飞秒激光与硅的作用原理 | 第19-22页 |
| §2.2 黑硅制备工艺 | 第22-24页 |
| §2.3 黑硅微流控芯片的制备 | 第24-27页 |
| 第三章 黑硅辅助银粒子生长的条件探索 | 第27-33页 |
| §3.1 在尖锥上的生长位置 | 第27-29页 |
| §3.2 生长温度的影响 | 第29-30页 |
| §3.3 溶液浓度的影响 | 第30-33页 |
| 第四章 制备微流控芯片催化反应器及SERS探测器 | 第33-40页 |
| §4.1 黑硅结构辅助银纳米粒子生长 | 第33-34页 |
| §4.2 黑硅-银纳米粒子SERS探测 | 第34-36页 |
| §4.3 微流控芯片SERS监测催化反应 | 第36-38页 |
| §4.4 微流控芯片催化反应器 | 第38-40页 |
| 第五章 结论 | 第40-42页 |
| 参考文献 | 第42-49页 |
| 作者简介 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50页 |