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VN/SiO2和TiAlN/Si3N4纳米多层膜的微结构、超硬效应与高温稳定性

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-9页
第一章 绪论第12-29页
    1.1 引言第12页
    1.2 硬质薄膜的分类第12-14页
        1.2.1 本征硬质薄膜第13页
        1.2.2 微结构强化硬质薄膜第13-14页
    1.3 纳米多层膜第14-20页
        1.3.1 纳米多层膜的基本概念第14-15页
        1.3.2 纳米多层膜的结构分类第15-16页
        1.3.3 纳米多层膜的强化理论第16-17页
        1.3.4 纳米多层膜中的非晶晶化与模板效应第17-20页
    1.4 纳米多层膜的高温稳定性研究第20-22页
    1.5 论文的研究内容第22-24页
    参考文献第24-29页
第二章 薄膜制备与检测第29-43页
    2.1 薄膜制备原理及设备第29-35页
        2.1.1 磁控溅射镀膜原理第29-34页
        2.1.2 磁控溅射镀膜设备第34-35页
        2.1.3 高温退火实验设备第35页
    2.2 薄膜检测方法及设备第35-42页
    参考文献第42-43页
第三章反应溅射VN/Si0_2纳米多层膜生长结构与力学性能第43-57页
    3.1 引言第43-44页
    3.2 反应溅射VN/Si0_2纳米多层膜的制备第44-47页
    3.3 实验结果第47-52页
    3.4 讨论第52-53页
    3.5 本章小结第53-55页
    参考文献第55-57页
第四章 反应溅射TiAlN/Si_3N_4纳米多层膜的力学性能与高温抗氧化性第57-70页
    4.1 实验过程第57-59页
    4.2 结果与讨论第59-67页
    4.3 本章小结第67-68页
    参考文献第68-70页
第五章结论第70-72页
攻读硕士期间发表论文及申请专利第72-73页
致谢第73页

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