电压和电解液对阳极氧化铝模板孔间距的影响
摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
1 绪论 | 第8-28页 |
1.1 课题研究背景 | 第8-9页 |
1.2 阳极氧化铝模板研究概述 | 第9-26页 |
1.2.1 AAO 模板形成机理 | 第9-17页 |
1.2.1.1 多孔阳极氧化铝模型 | 第9-11页 |
1.2.1.2 铝阳极氧化膜的形成机理 | 第11-12页 |
1.2.1.3 阻挡层的形成理论 | 第12-13页 |
1.2.1.4 多孔层的形成理论 | 第13-17页 |
1.2.2 AAO 膜形成的影响因素 | 第17-19页 |
1.2.3 孔径和孔间距的影响因素 | 第19-26页 |
1.2.3.1 电解液的影响 | 第20-22页 |
1.2.3.2 温度的影响 | 第22页 |
1.2.3.3 氧化电压的影响 | 第22-26页 |
1.3 研究的目的和意义 | 第26-27页 |
1.3.1 研究的目的 | 第26页 |
1.3.2 研究的意义 | 第26-27页 |
1.4 课题研究方法及研究的主要内容 | 第27-28页 |
1.4.1 研究方法 | 第27页 |
1.4.2 主要研究内容 | 第27-28页 |
2 基本理论 | 第28-32页 |
2.1 有限单元法理论 | 第28页 |
2.2 ANSYS 软件介绍 | 第28-30页 |
2.3 等场强理论 | 第30-32页 |
3 氧化铝元胞孔的形成 | 第32-38页 |
3.1 氧化铝膜孔初始点的研究 | 第32-35页 |
3.2 氧化铝形成过程中的水解反应 | 第35-36页 |
3.3 小结 | 第36-38页 |
4 孔间距与电压的关系 | 第38-69页 |
4.1 孔间距与阳极氧化电压的定性关系 | 第38-48页 |
4.2 孔间距与阳极氧化电压的定量关系 | 第48-69页 |
4.2.1 元胞孔等间距和不等间距的限元模型 | 第48-52页 |
4.2.2 元胞孔间距与电压之间的关系 | 第52-56页 |
4.2.3 孔的形成与发展 | 第56-58页 |
4.2.4 单个元胞内的电场分析 | 第58-65页 |
4.2.5 元胞孔形状的分析 | 第65-67页 |
4.2.6 小结 | 第67-69页 |
5 总结与展望 | 第69-71页 |
5.1 总结 | 第69-70页 |
5.2 展望 | 第70-71页 |
参考文献 | 第71-79页 |
索引 | 第79-81页 |
在学研究成果 | 第81-82页 |
致谢 | 第82页 |