| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-12页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 光学薄膜的发展 | 第8页 |
| 1.3 大口径光学镀膜均匀性的研究意义和现状 | 第8-11页 |
| 1.3.1 国内研究现状 | 第9-10页 |
| 1.3.2 国外研究现状 | 第10-11页 |
| 1.4 论文研究的意义及主要内容 | 第11-12页 |
| 第二章 光学薄膜均匀性理论与分析 | 第12-21页 |
| 2.1 传统光学薄膜分布理论分析 | 第12-19页 |
| 2.1.1 中心蒸发源平面基片膜厚分布 | 第13-15页 |
| 2.1.2 球面夹具下的膜厚分布 | 第15-16页 |
| 2.1.3 平面旋转夹具下膜厚分布 | 第16-17页 |
| 2.1.4 旋转球面夹具下的膜厚分布 | 第17-18页 |
| 2.1.5 行星式平面夹具下的膜厚分布 | 第18-19页 |
| 2.2 实际蒸发源的蒸汽蒸发特性 | 第19-20页 |
| 2.3 本章小结 | 第20-21页 |
| 第三章 镀膜工艺对膜层结构的影响 | 第21-26页 |
| 3.1 薄膜的形成 | 第21-22页 |
| 3.1.1 吸附过程 | 第21页 |
| 3.1.2 成核过程 | 第21-22页 |
| 3.1.3 生长过程 | 第22页 |
| 3.2 气压与温度对薄膜生长的影响 | 第22-24页 |
| 3.3 离子辅助沉积 | 第24-25页 |
| 3.4 本章小结 | 第25-26页 |
| 第四章 光学薄膜常数测量 | 第26-34页 |
| 4.1 光谱曲线测量 | 第27-28页 |
| 4.2 通过透射光谱确定光学常数和膜层厚度 | 第28-32页 |
| 4.2.1 单层光学薄膜的性质 | 第28-30页 |
| 4.2.2 基片的非相干透射和反射 | 第30-31页 |
| 4.2.3 极值法计算光学常数和膜层厚度 | 第31-32页 |
| 4.3 透射极值法的主要优点 | 第32-34页 |
| 第五章 椭球形薄膜均匀性实验及数值模拟 | 第34-42页 |
| 5.1 数学模型的建立 | 第34-35页 |
| 5.2 实际实验与模拟对比 | 第35-39页 |
| 5.2.1 椭球不同位置在不同沉积条件下的膜厚分布情况 | 第35-37页 |
| 5.2.2 残余气体对膜厚分布情况分析 | 第37-38页 |
| 5.2.3 离子辅助镀膜的均匀性影响 | 第38-39页 |
| 5.3 椭球形基底均匀膜层的镀制 | 第39-41页 |
| 5.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 总结 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-45页 |
| 致谢 | 第45页 |