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髙性能氮化硅陶瓷粉体研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第11-13页
第2章 文献综述第13-35页
    2.1 氮化硅发展历史第13页
    2.2 氮化硅的基本结构第13-16页
    2.3 氮化硅的制备方法第16-17页
        2.3.1 直接氮化法第16页
        2.3.2 碳热还原法第16-17页
        2.3.3 硅酰亚胺分解法第17页
        2.3.4 等离子体法第17页
    2.4 氮化硅的应用第17-19页
    2.5 高品质氮化硅陶瓷粉末的性能要求第19-21页
        2.5.1 高α相含量第19-20页
        2.5.2 较细和较窄的粒径分布第20页
        2.5.3 高的纯度第20-21页
    2.6 硅粉氮化的形核和生长过程第21-22页
    2.7 影响氮化反应的因素第22-35页
        2.7.1 样品尺寸效应第23-25页
        2.7.2 硅粉粒度第25-26页
        2.7.3 二氧化硅第26-27页
        2.7.4 金属杂质第27-28页
        2.7.5 O_2和H_2第28-30页
        2.7.6 气体压力第30-31页
        2.7.7 氮气浓度和氮化温度第31-35页
第3章 实验设备与测试仪器第35-41页
    3.1 管式旋转炉第35-36页
    3.2 行星式球磨机第36-37页
    3.3 微波消解仪第37页
    3.4 X射线衍射仪第37-38页
    3.5 扫描电子显微镜第38页
    3.6 激光粒度仪第38-39页
    3.7 电感耦合等离子光谱(ICP-OES)第39-41页
第4章 硅粉的氮化实验第41-57页
    4.1 引言第41-42页
    4.2 实验部分第42-44页
    4.3 实验结果与分析第44-55页
        4.3.1 硅粉粒度对氮化效果的影响第44-46页
        4.3.2 添加氮化硅稀释剂对氮化效果的影响第46-48页
        4.3.3 旋转炉的使用对氮化效果的影响第48-51页
        4.3.4 两步氮化法对氮化效果的影响第51-53页
        4.3.5 多孔硅氮化制备高α相氮化硅第53-54页
        4.3.6 添加纳米硅粉制备高α相氮化硅第54-55页
    4.4 本章小结第55-57页
第5章 氮化硅的球磨和酸洗提纯第57-67页
    5.1 引言第57-59页
    5.2 实验部分第59-60页
    5.3 数据分析与讨论第60-64页
        5.3.1 磨球大小配比和球料比对球磨效果的影响第60-62页
        5.3.2 球磨转速对球磨效果的影响第62页
        5.3.3 球磨时间对球磨效果的影响第62-63页
        5.3.4 氮化硅的酸洗提纯第63-64页
    5.4 本章小结第64-67页
第6章 全文结论第67-69页
参考文献第69-73页
致谢第73-75页
个人简历第75-77页
攻读硕士期间发表的专利第77页

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