髙性能氮化硅陶瓷粉体研究
摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第1章 绪论 | 第11-13页 |
第2章 文献综述 | 第13-35页 |
2.1 氮化硅发展历史 | 第13页 |
2.2 氮化硅的基本结构 | 第13-16页 |
2.3 氮化硅的制备方法 | 第16-17页 |
2.3.1 直接氮化法 | 第16页 |
2.3.2 碳热还原法 | 第16-17页 |
2.3.3 硅酰亚胺分解法 | 第17页 |
2.3.4 等离子体法 | 第17页 |
2.4 氮化硅的应用 | 第17-19页 |
2.5 高品质氮化硅陶瓷粉末的性能要求 | 第19-21页 |
2.5.1 高α相含量 | 第19-20页 |
2.5.2 较细和较窄的粒径分布 | 第20页 |
2.5.3 高的纯度 | 第20-21页 |
2.6 硅粉氮化的形核和生长过程 | 第21-22页 |
2.7 影响氮化反应的因素 | 第22-35页 |
2.7.1 样品尺寸效应 | 第23-25页 |
2.7.2 硅粉粒度 | 第25-26页 |
2.7.3 二氧化硅 | 第26-27页 |
2.7.4 金属杂质 | 第27-28页 |
2.7.5 O_2和H_2 | 第28-30页 |
2.7.6 气体压力 | 第30-31页 |
2.7.7 氮气浓度和氮化温度 | 第31-35页 |
第3章 实验设备与测试仪器 | 第35-41页 |
3.1 管式旋转炉 | 第35-36页 |
3.2 行星式球磨机 | 第36-37页 |
3.3 微波消解仪 | 第37页 |
3.4 X射线衍射仪 | 第37-38页 |
3.5 扫描电子显微镜 | 第38页 |
3.6 激光粒度仪 | 第38-39页 |
3.7 电感耦合等离子光谱(ICP-OES) | 第39-41页 |
第4章 硅粉的氮化实验 | 第41-57页 |
4.1 引言 | 第41-42页 |
4.2 实验部分 | 第42-44页 |
4.3 实验结果与分析 | 第44-55页 |
4.3.1 硅粉粒度对氮化效果的影响 | 第44-46页 |
4.3.2 添加氮化硅稀释剂对氮化效果的影响 | 第46-48页 |
4.3.3 旋转炉的使用对氮化效果的影响 | 第48-51页 |
4.3.4 两步氮化法对氮化效果的影响 | 第51-53页 |
4.3.5 多孔硅氮化制备高α相氮化硅 | 第53-54页 |
4.3.6 添加纳米硅粉制备高α相氮化硅 | 第54-55页 |
4.4 本章小结 | 第55-57页 |
第5章 氮化硅的球磨和酸洗提纯 | 第57-67页 |
5.1 引言 | 第57-59页 |
5.2 实验部分 | 第59-60页 |
5.3 数据分析与讨论 | 第60-64页 |
5.3.1 磨球大小配比和球料比对球磨效果的影响 | 第60-62页 |
5.3.2 球磨转速对球磨效果的影响 | 第62页 |
5.3.3 球磨时间对球磨效果的影响 | 第62-63页 |
5.3.4 氮化硅的酸洗提纯 | 第63-64页 |
5.4 本章小结 | 第64-67页 |
第6章 全文结论 | 第67-69页 |
参考文献 | 第69-73页 |
致谢 | 第73-75页 |
个人简历 | 第75-77页 |
攻读硕士期间发表的专利 | 第77页 |