基于近场电纺直写的微纳3D打印平台搭建及其图案精确沉积性能研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 微纳 3D打印技术概述 | 第9-15页 |
| 1.2.1 微立体光刻 | 第10-11页 |
| 1.2.2 双光子聚合 3D激光直写 | 第11页 |
| 1.2.3 微激光烧结 | 第11-12页 |
| 1.2.4 电化学沉积 | 第12-13页 |
| 1.2.5 电喷印 | 第13-14页 |
| 1.2.6 微纳 3D打印工艺比较 | 第14-15页 |
| 1.3 静电纺丝概论 | 第15-18页 |
| 1.3.1 静电纺丝原理 | 第15-17页 |
| 1.3.2 近场静电纺丝技术 | 第17页 |
| 1.3.3 近场纺丝与传统静电场纺丝的比较 | 第17-18页 |
| 1.4 本课题研究的目标以及主要的研究内容 | 第18-20页 |
| 1.4.1 选题依据 | 第18-19页 |
| 1.4.2 研究目标 | 第19页 |
| 1.4.3 研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 近场静电纺丝直写平台搭建 | 第20-38页 |
| 2.1 近场静电纺丝直写平台的功能设计 | 第20-23页 |
| 2.1.1 静电纺丝基本结构装置 | 第20-22页 |
| 2.1.2 近场静电纺丝平台功能布局 | 第22-23页 |
| 2.2 三轴运动系统 | 第23-29页 |
| 2.2.1 电机的选择和传动机构的设计 | 第23-25页 |
| 2.2.2 电机功率及传动部件设计计算 | 第25-29页 |
| 2.3 成形环境系统设计 | 第29-31页 |
| 2.3.1 接收基底温度 | 第29-30页 |
| 2.3.2 高压电源 | 第30-31页 |
| 2.3.3 成形室方案 | 第31页 |
| 2.4 输送系统 | 第31-32页 |
| 2.5 数控系统 | 第32-37页 |
| 2.5.1 固高运动控制器 | 第32-35页 |
| 2.5.2 基于固高控制器的控制系统的塔建 | 第35-37页 |
| 2.6 开发的电纺设备 | 第37页 |
| 2.7 本章小结 | 第37-38页 |
| 第3章 近场静电纺丝的电场分析 | 第38-45页 |
| 3.1 影响近场稳定有序的纤维图形化沉积因素 | 第38页 |
| 3.2 近场静电纺丝的临界条件和电场的有限元仿真 | 第38-40页 |
| 3.2.1 静电纺丝的临界条件 | 第38-40页 |
| 3.3 有限元仿真 | 第40-44页 |
| 3.3.1 有限元软件的介绍 | 第40-44页 |
| 3.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 近场电纺实验研究 | 第45-60页 |
| 4.1 实验设计 | 第45-46页 |
| 4.1.1 实验主要试剂 | 第45页 |
| 4.1.2 实验仪器 | 第45页 |
| 4.1.3 纺丝液的制备 | 第45-46页 |
| 4.2 近场静电纺丝研究 | 第46-49页 |
| 4.2.1 初始射流形态 | 第46-47页 |
| 4.2.2 正交实验法对近场电纺影响因素的研究 | 第47-49页 |
| 4.3 微纳直线纤维结构直写 | 第49-59页 |
| 4.3.1 稳态射流直写 | 第49-50页 |
| 4.3.2 基板速度作用规律 | 第50-52页 |
| 4.3.3 施加电压的影响 | 第52-53页 |
| 4.3.4 喷射高度的作用规律 | 第53-55页 |
| 4.3.5 运动突变的作用影响 | 第55-56页 |
| 4.3.6 图案化直线叠层沉积 | 第56-59页 |
| 4.4 本章小结 | 第59-60页 |
| 第5章 总结与展望 | 第60-61页 |
| 5.1 总结 | 第60页 |
| 5.2 展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
