| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 光纤传感器的发展历程及分类 | 第9-13页 |
| 1.1.1 光纤迈克尔逊干涉型传感器 | 第10-11页 |
| 1.1.2 光纤马赫-曾德尔干涉型传感器 | 第11-12页 |
| 1.1.3 光纤萨格纳克干涉型传感器 | 第12-13页 |
| 1.1.4 光纤法布里-珀罗干涉型传感器 | 第13页 |
| 1.2 光纤MEMS压力传感器 | 第13-19页 |
| 1.2.1 微机电系统 | 第13-15页 |
| 1.2.2 光纤MEMS压力传感器研究现状 | 第15-19页 |
| 1.3 课题来源及本文研究内容、意义 | 第19-22页 |
| 1.3.1 课题来源 | 第19-20页 |
| 1.3.2 课题研究目的和意义 | 第20页 |
| 1.3.3 课题主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 光纤法布里-珀罗传感器的基本原理 | 第22-36页 |
| 2.1 光纤法布里-珀罗干涉仪原理——多光束干涉 | 第22-25页 |
| 2.2 光纤法布里-珀罗传感器结构 | 第25-28页 |
| 2.2.1 本征型光纤法布里-珀罗传感器 | 第25-26页 |
| 2.2.2 非本征型光纤法布里-珀罗传感器 | 第26-27页 |
| 2.2.3 在线型光纤法布里-珀罗传感器 | 第27-28页 |
| 2.3 光纤法布里-珀罗传感器的解调原理 | 第28-35页 |
| 2.3.1 强度解调 | 第28-30页 |
| 2.3.2 相位解调 | 第30-32页 |
| 2.3.3 波长解调 | 第32-35页 |
| 2.4 本章小结 | 第35-36页 |
| 第3章 基于45度光纤的法布里-珀罗波纹膜微压传感器 | 第36-60页 |
| 3.1 前言 | 第36页 |
| 3.2 传感器结构分析 | 第36-38页 |
| 3.3 敏感膜力学模型分析 | 第38-40页 |
| 3.4 传感器的制作工艺流程 | 第40-49页 |
| 3.4.1 近紫外光刻 | 第41-46页 |
| 3.4.2 传感器的封装 | 第46-48页 |
| 3.4.3 传感器制作工艺流程 | 第48-49页 |
| 3.5 传感器性能测试 | 第49-58页 |
| 3.5.1 解调方法 | 第50-52页 |
| 3.5.2 压力实验 | 第52-57页 |
| 3.5.3 温度实验 | 第57-58页 |
| 3.6 本章小结 | 第58-60页 |
| 第4章 基于45度光纤的复合法布里-珀罗干涉腔微压传感器 | 第60-78页 |
| 4.1 前言 | 第60页 |
| 4.2 传感器的理论模型 | 第60-65页 |
| 4.3 传感器工艺流程 | 第65-69页 |
| 4.3.1 硅片的湿法腐蚀 | 第65-68页 |
| 4.3.2 磁控溅射镀膜 | 第68页 |
| 4.3.3 传感器制作工艺流程 | 第68-69页 |
| 4.4 传感器性能测试 | 第69-77页 |
| 4.4.1 压力实验 | 第71-75页 |
| 4.4.2 温度实验 | 第75-77页 |
| 4.5 本章小结 | 第77-78页 |
| 第5章 基于光纤法兰盘结构的法布里-珀罗微压传感器 | 第78-88页 |
| 5.1 前言 | 第78页 |
| 5.2 传感器结构分析 | 第78-80页 |
| 5.3 传感器制作工艺流程 | 第80-83页 |
| 5.3.1 阳极键合 | 第80-82页 |
| 5.3.2 传感器制作工艺流程 | 第82-83页 |
| 5.4 传感器性能测试 | 第83-87页 |
| 5.5 本章小结 | 第87-88页 |
| 第6章 结束语 | 第88-91页 |
| 6.1 本文工作总结 | 第88-89页 |
| 6.2 本文创新点 | 第89页 |
| 6.3 后续工作展望 | 第89-91页 |
| 参考文献 | 第91-102页 |
| 在读期间发表的学术论文及研究成果 | 第102-104页 |
| 致谢 | 第104页 |
