首页--数理科学和化学论文--物理学论文--固体物理学论文--薄膜物理学论文--薄膜的生长、结构和外延论文

高质量Cu(In,Ga)Se2薄膜的低成本制备工艺研究

摘要第1-4页
Abstract第4-9页
第1章 绪论第9-18页
   ·太阳能利用的重要性第9-11页
   ·太阳能电池的发展概况第11-15页
   ·铜铟镓硒(CIGS)太阳能电池发展概况第15-16页
   ·本论文研究内容和选题意义第16-17页
 参考文献第17-18页
第2章 CIGS太阳能电池的结构和参数第18-29页
   ·CIGS太阳能电池结构第18-22页
     ·CIGS的晶体结构和特性第18-19页
     ·CIGS太阳能电池的结构第19-20页
     ·CIGS太阳能电池的性能参数第20-22页
   ·CIGS薄膜的制备方法第22-27页
     ·真空蒸发法第22页
     ·磁控溅射法第22-23页
     ·分子束外延法第23页
     ·丝网印刷法第23-24页
     ·喷涂热解法第24页
     ·溶胶-凝胶(Sol-Gel)法第24页
     ·电化学沉积法第24-27页
 参考文献第27-29页
第3章 CuInSe_2薄膜的电化学沉积制备研究第29-49页
   ·电化学沉积CuInSe_2的原理及设备第29-31页
   ·实验设计第31-32页
     ·实验材料第31-32页
     ·实验工艺流程第32页
   ·实验过程第32-35页
     ·衬底材料的选择第32页
     ·衬底的清洗第32-33页
     ·Mo薄膜的制备第33-34页
     ·溶液的配制第34页
     ·硒化和退火第34-35页
   ·CIS薄膜的测试和表征第35-36页
     ·薄膜厚度测试第35页
     ·X射线衍射(XRD)分析第35-36页
     ·扫描电子显微镜(SEM)分析第36页
     ·能量色散谱仪(EDS)分析第36页
     ·拉曼(Raman)光谱测试第36页
   ·实验结果分析与讨论第36-48页
     ·溶质浓度对成膜的影响第36-40页
     ·衬底材料对薄膜特性的影响第40-42页
     ·一步法和两步法的比较第42-44页
     ·氯化钾浓度对薄膜结构的影响第44-48页
 参考文献第48-49页
第4章 磁控溅射制备Cu(In,Ga)Se2薄膜及性能的研究第49-58页
   ·磁控溅射制备CIGS的原理及设备第49-50页
   ·实验过程第50页
   ·磁控溅射CIGS的测试与表征第50-54页
     ·溅射功率对CIGS薄膜性能的影响第50-52页
     ·薄膜厚度与溅射时间的关系第52页
     ·溅射气压对CIGS薄膜的影响第52-54页
   ·后磁控溅射对电化学沉积CIS薄膜表面形貌的改善第54-57页
 参考文献第57-58页
第5章 结论和展望第58-60页
在学期间的研究成果第60-61页
致谢第61页

论文共61页,点击 下载论文
上一篇:团簇源中团簇形成的DSMC模拟研究
下一篇:强磁场对典型电子器件影响机理的研究