| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-12页 |
| ·团簇源概况 | 第8-10页 |
| ·气体凝聚团簇源 | 第8-9页 |
| ·磁控溅射气体团簇源 | 第9-10页 |
| ·团簇形成的研究近况 | 第10页 |
| ·本文主要工作 | 第10-12页 |
| 第二章 直接模拟Monte-Carlo方法(DSMC) | 第12-22页 |
| ·DSMC方法的一般步骤 | 第12-13页 |
| ·DSMC方法模拟中的关键技术 | 第13-14页 |
| ·流动计算区域的网格划分 | 第13页 |
| ·时间步长的选取 | 第13-14页 |
| ·仿真分子数的选取 | 第14页 |
| ·分子作用势模型 | 第14-16页 |
| ·碰撞的力学机制及散射模型 | 第16-18页 |
| ·碰撞参数 | 第16页 |
| ·碰撞的力学机理 | 第16-17页 |
| ·散射模型 | 第17-18页 |
| ·碰撞后分子运动速度的计算 | 第18页 |
| ·Maxwel1-Boltzmann能量分布函数 | 第18-19页 |
| ·DSMC方法中物面边界的处理方法 | 第19-22页 |
| 第三章 气体凝聚团簇源中团簇形成的模拟研究 | 第22-34页 |
| ·模拟方法和参数 | 第22-24页 |
| ·腔的长度对团簇形成的影响 | 第24-26页 |
| ·腔壁的温度对团簇形成的影响 | 第26-28页 |
| ·Ar的含量对团簇形成的影响 | 第28-31页 |
| ·He的含量对团簇形成的影响 | 第31-33页 |
| ·结论 | 第33-34页 |
| 第四章 引出口的几何参数对团簇形成的影响的模拟研究 | 第34-39页 |
| ·模拟方法和基本参数 | 第34-35页 |
| ·引出口对团簇尺寸分布的影响 | 第35-36页 |
| ·引出口的中心坐标对团簇的尺寸分布的影响 | 第36-37页 |
| ·时间的变化对腔内团簇数目的影响 | 第37-38页 |
| ·小结 | 第38-39页 |
| 第五章 磁控溅射气体团簇源中团簇形成的DSMC研究 | 第39-45页 |
| ·模拟模型和基本参数 | 第39-40页 |
| ·不同的带电Cu含量比例对团簇形成的影响 | 第40-43页 |
| ·Cu~-含量与Cu~+含量比例相同时对团簇形成的影响 | 第40-43页 |
| ·Cu~-含量与Cu~+含量比例不相同时对团簇形成的影响 | 第43页 |
| ·小结 | 第43-45页 |
| 第六章 结论 | 第45-47页 |
| ·主要结论 | 第45页 |
| ·研究展望 | 第45-47页 |
| 参考文献 | 第47-49页 |
| 在学期间的研究成果 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 附录 磁控溅射气体团簇源的DSMC方法程序 | 第51-87页 |
