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层状过渡金属硫化物及其纳米带特性的第一性原理研究

摘要第1-7页
ABSTRACT第7-11页
第一章 绪论第11-26页
   ·引言第11-13页
   ·体材料的性质第13-14页
     ·光电化学性能第13-14页
     ·摩擦性能第14页
   ·低维材料的性质第14-15页
   ·低维TMDCs的制备方法第15-20页
   ·本论文的主要研究内容第20页
 参考文献第20-26页
第二章 第一性原理以及计算软件的介绍第26-34页
   ·引言第26-27页
   ·密度泛函理论第27-32页
     ·多体问题第27-29页
     ·Hosenberg-Kohn定理第29-30页
     ·Kohn-Sham方程第30页
     ·局域密度近似(LDA)第30-31页
     ·广义梯度近似(GGA)第31-32页
   ·常用的计算软件第32-33页
   ·小结第33页
 参考文献第33-34页
第三章 应力作用下MoS_2双层以及MX_2(M=Mo、W;X=S、Se)纳米带的电子性质第34-51页
   ·前言第34-36页
   ·纳米带的计算与结果讨论第36-43页
     ·WX_2(X=S,Se)纳米带的计算方法与模型第36-37页
     ·计算结果与讨论第37-43页
     ·结论第43页
   ·双层MoS_2的计算与结果讨论第43-48页
     ·双层MoS_2的计算模型第43-44页
     ·计算的结果与讨论第44-47页
     ·结论第47-48页
   ·结论第48页
 参考文献第48-51页
第四章 电荷注入对过渡金属硫化物磁各向异性能的调控第51-65页
   ·引言第51-53页
   ·计算的方法与模型第53-54页
   ·结果与讨论第54-61页
     ·单层MoS_2吸附双层Fe造成的影响第54-55页
     ·电荷注入对Fe/MoS_2/Fe的MAE的影响第55-58页
     ·注入电荷对MoX_2(X=S,Se,Te)的MAE的影响第58-61页
   ·结论第61-62页
 参考文献第62-65页
第五章 总结与展望第65-67页
攻读硕士学位期间的研究成果第67-68页
致谢第68页

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