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AlGaN/GaN异质结材料与器件的特性参数研究

摘要第1-14页
ABSTRACT第14-19页
符号表第19-20页
第一章 引言第20-38页
 §1-1 AlGaN/GaN异质结材料与器件的研究背景第20-22页
 §1-2 AlGaN/GaN异质结构材料的发展历史第22页
 §1-3 AlGaN/GaN异质结光电器件的发展历史第22-24页
 §1-4 AlGaN/GaN异质结微电子器件的发展历史第24-29页
  1-4-1 提高AlGaN/GaN异质结微电子器件性能的常用工艺技术第25-28页
  1-4-2 增强型AlGaN/GaN HFETs的制备第28-29页
 §1-5 AlGaN/GaN异质结电力电子器件的研究进展第29页
 §1-6 国内AlGaN/GaN HFETs的研究进展第29页
 §1-7 本文的研究内容与安排第29-32页
 参考文献第32-38页
第二章 器件的制备与测试第38-50页
 §2-1 AlGaN/GaN异质结材料的生长第38-40页
  2-1-1 衬底材料第38页
  2-1-2 缓冲层第38-39页
  2-1-3 生长工艺第39-40页
  2-1-4 本文AlGaN/GaN异质结材料的生长方法与结构特性第40页
  2-1-5 本文AlGaN/AlN/GaN异质结材料的生长方法与结构特性第40页
 §2-2 AlGaN/GaN HFETs的制备工艺第40-44页
  2-2-1 表面处理第40-41页
  2-2-2 光刻工艺第41-42页
  2-2-3 台面刻蚀工艺第42页
  2-2-4 欧姆接触和肖特基接触工艺第42-44页
 §2-3 AlGaN/GaN异质结构材料与器件的测试第44-47页
 参考文献第47-50页
第三章 AlGaN/AlN/GaN HFETs中2DEG电子迁移率研究第50-76页
 §3-1 圆形与方形AlGaN/AlN/GaN HFETs线性区的电流-电压关系第50-54页
  3-1-1 圆形AlGaN/AlN/GaN HFETs线性区的电流-电压关系第51-52页
  3-1-2 方形AlGaN/AlN/GaN HFETs线性区的电流-电压关系第52-54页
 §3-2 不同栅金属面积、不同源漏间距的AlGaN/AlN/GaN HFETs中2DEG电子低场迁移率的研究第54-74页
  3-2-1 圆形与方形AlGaN/AlN/GaN HFETs(源漏间距100μm)中的2DEG电子低场迁移率第54-60页
  3-2-2 不同漏源尺寸的方形AlGaN/AlN/GaN HFETs中的2DEG电子低场迁移率第60-67页
  3-2-3 不同栅金属面积、不同源漏间距方形AlGaN/AlN/GaN HFETs线性工作区2 DEG迁移率第67-74页
 参考文献第74-76页
第四章 从正向I-V曲线获取AlGaN/GaN(AlGaN/AlN/GaN)异质结肖特基势垒高度第76-96页
 §4-1 从正向I-V曲线获取AlGaN/GaN异质结肖特基二极管势垒高度第77-87页
  4-1-1 利用热电子发射理论从正向I-V曲线获取AlGaN/GaN异质结肖特基二极管势垒高度第77-85页
  4-1-2 利用平带电压从正向I-V曲线获取AlGaN/GaN异质结肖特基二极管势垒高度第85-87页
 §4-2 从正向I-V曲线获取AlGaN/AlN/GaN异质结肖特基二极管势垒高度第87-93页
  4-2-1 利用热电子发射模型从正向I-V曲线获取AlGaN/AlN/GaN异质结肖特基二极管势垒高度第87-91页
  4-2-2 利用平带电压从正向I-V曲线获取AlGaN/AlN/GaN异质结肖特基二极管势垒高度第91-93页
 参考文献第93-96页
第五章 从正向I-V曲线获取AlGaN/GaN异质结极化电荷密度第96-100页
 参考文献第99-100页
第六章 热退火对AlGaN/GaN异质结肖特基接触特征参数的影响第100-112页
 §6-1 热退火处理对AlGaN势垒层应变的影响第101-106页
 §6-2 热退火处理对AlGaN势垒层相对介电常数的影响第106-108页
 §6-3 热退火对AlGaN/GaN异质结肖特基接触其他特征参数的影响第108-110页
 参考文献第110-112页
第七章 结论第112-116页
致谢第116-118页
攻读博士学位期间发表的学术论文目录第118-120页
Paper 1第120-129页
Paper 2第129-138页
学位论文评阅及答辩情况表第138页

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