现场X荧光方法的质量控制与评价
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 引言 | 第10-14页 |
| ·选题依据与研究意义 | 第10-11页 |
| ·国内外研究现状 | 第11-12页 |
| ·X 荧光技术的发展历程 | 第11页 |
| ·我国 X 荧光技术的发展现状 | 第11-12页 |
| ·现场 X 荧光方法在我国地质领域的应用 | 第12页 |
| ·研究内容 | 第12-13页 |
| ·主要成果 | 第13-14页 |
| 第2章 现场 X 荧光方法的理论基础 | 第14-24页 |
| ·X 射线与 X 荧光 | 第14-17页 |
| ·X 射线的本质 | 第14页 |
| ·X 射线荧光的产生与莫赛来定律 | 第14-16页 |
| ·X 射线与物质的相互作用 | 第16-17页 |
| ·现场 X 荧光方法的基本原理 | 第17-22页 |
| ·定性分析 | 第17-18页 |
| ·定量分析 | 第18-20页 |
| ·干扰因素及其校正 | 第20-22页 |
| ·现场 X 荧光分析的误差分析 | 第22-24页 |
| 第3章 现场 X 荧光方法的质量控制与评价方法 | 第24-45页 |
| ·仪器的选择 | 第24-26页 |
| ·现场 X 荧光分析仪器的选择 | 第24-25页 |
| ·论文所用仪器 | 第25-26页 |
| ·现场 X 荧光分析系统的评价 | 第26-30页 |
| ·准确度 | 第26-27页 |
| ·精确度 | 第27-28页 |
| ·检出限 | 第28-30页 |
| ·仪器的一致性 | 第30页 |
| ·质量控制方法研究 | 第30-41页 |
| ·样品制备控制 | 第31-35页 |
| ·测量环境 | 第35-36页 |
| ·操作步骤 | 第36页 |
| ·记录与数据备份控制 | 第36页 |
| ·准确度控制 | 第36-38页 |
| ·稳定性的控制 | 第38-39页 |
| ·现场原位 X 荧光取样控制 | 第39-40页 |
| ·测网布置原则 | 第40-41页 |
| ·现场 X 荧光测量结果评价 | 第41-45页 |
| ·现场驻地 X 荧光测量结果评价 | 第41-43页 |
| ·现场原位 X 荧光测量结果评价 | 第43-45页 |
| 第4章 新疆某测区现场 X 荧光方法质量评价 | 第45-75页 |
| ·工区概况 | 第45页 |
| ·测网布置 | 第45-46页 |
| ·现场 X 荧光分析系统的评价 | 第46-50页 |
| ·准确度评价 | 第46-47页 |
| ·精确度评价 | 第47-48页 |
| ·一致性分析 | 第48-50页 |
| ·质量控制方法的应用 | 第50-56页 |
| ·稳定性控制 | 第51-52页 |
| ·准确度控制 | 第52-56页 |
| ·现场驻地 X 荧光测量结果评价 | 第56-65页 |
| ·重复性评价 | 第56-59页 |
| ·一致性评价 | 第59-62页 |
| ·不同分析方法的评价 | 第62-65页 |
| ·现场原位 X 荧光测量结果评价 | 第65-69页 |
| ·系统误差检验 | 第65-66页 |
| ·重复测量合格率检验 | 第66-68页 |
| ·重复原位 X 荧光品位间的显著性差异检验 | 第68-69页 |
| ·现场 X 荧光方法圈定异常 | 第69-75页 |
| ·背景值与异常下限的确定 | 第69-70页 |
| ·现场 X 荧光异常及解释 | 第70-75页 |
| 结论 | 第75-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-80页 |
| 攻读学位期间取得学术成果 | 第80页 |
