冶金法制备太阳能级多晶硅工艺研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 引言 | 第9-33页 |
| ·立题背景 | 第10-11页 |
| ·太阳能电池 | 第11-17页 |
| ·太阳能电池发电原理 | 第11-12页 |
| ·太阳能电池种类 | 第12-14页 |
| ·多(单)晶硅太阳能电池制作流程 | 第14-17页 |
| ·硅材料主要制备方法 | 第17-32页 |
| ·工业硅生产工艺 | 第19-20页 |
| ·高纯多晶硅传统生产工艺 | 第20-24页 |
| ·高纯多晶硅新生产工艺 | 第24-32页 |
| ·本论文研究的主要目的及内容 | 第32-33页 |
| 2 真空熔炼制备多晶硅 | 第33-46页 |
| ·真空熔炼实验理论分析 | 第33-37页 |
| ·真空熔炼热力学 | 第33-34页 |
| ·真空熔炼动力学 | 第34-36页 |
| ·硅中挥发性元素的蒸发理论分析 | 第36-37页 |
| ·真空熔炼实验 | 第37-40页 |
| ·实验设备 | 第37-38页 |
| ·实验步骤 | 第38-40页 |
| ·实验结果分析与讨论 | 第40-45页 |
| ·真空熔炼后不同部位杂质分布情况 | 第40-42页 |
| ·保温时间对杂质去除效果的影响 | 第42-44页 |
| ·保温气压对杂质去除效果的影响 | 第44页 |
| ·保温温度对杂质去除效果的影响 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 3 电子束熔炼制备多晶硅 | 第46-62页 |
| ·电子束熔炼产业的发展 | 第46-47页 |
| ·电子束熔炼背景 | 第46页 |
| ·电子束熔炼优缺点 | 第46-47页 |
| ·电子束熔炼提纯基本原理 | 第47页 |
| ·电子束熔炼实验 | 第47-52页 |
| ·电子束熔炼炉介绍 | 第47-50页 |
| ·电子束熔炼实验步骤 | 第50-51页 |
| ·电子束熔炼实验参数及结果 | 第51-52页 |
| ·实验结果分析及讨论 | 第52-61页 |
| ·试样的选取 | 第52-53页 |
| ·电子束熔炼后硅锭杂质分布 | 第53-58页 |
| ·熔炼功率对杂质去除效果的影响 | 第58-59页 |
| ·熔炼时间对杂质去除效果的影响 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 4 显微组织分析 | 第62-66页 |
| ·硅料腐蚀机理 | 第62-63页 |
| ·显微组织观察 | 第63-64页 |
| ·显微组织与杂质元素的去除关系分析 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 5 全文总结及展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
