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低阻低温的ZrO2基底TMA传感器的研究和制作

摘要第1-9页
Abstract第9-11页
第一章 绪论第11-23页
   ·三甲胺及其传感器研究综述第11-14页
     ·三甲胺性质第11页
     ·环境中三甲胺的测定方法第11-12页
     ·TMA气敏传感器国内外研究概述第12-14页
   ·半导体金属氧化物气敏传感器综述第14-15页
     ·半导体概述第14-15页
     ·半导体金属氧化物气敏材料概述第15页
   ·超细颗粒简介第15-16页
   ·半导体敏感材料第16-18页
     ·ZrO_2性质介绍第16-17页
     ·ZrO_2半导体敏感材料研究现状第17-18页
   ·本课题的研究目的和意义第18-19页
     ·课题背景第18-19页
     ·研究目标和内容第19页
     ·实验方案第19页
     ·论文的创新点第19页
   ·参考文献第19-23页
第二章 ZrO_2及其他金属氧化物超细颗粒的制备第23-40页
   ·引言第23页
   ·ZrO_2超细颗粒的制备技术综述第23-26页
     ·中和沉淀法第23页
     ·水解沉淀法第23-24页
     ·醇盐水解沉淀法第24页
     ·水热合成法第24-25页
     ·化学气相沉淀法第25页
     ·溶胶—凝胶法第25页
     ·近代物理方法第25-26页
   ·ZrO_2超细颗粒的制备第26-32页
     ·仪器与试剂第26页
     ·实验方法第26-27页
     ·结果与讨论第27-32页
     ·小结第32页
   ·SnO_2超细颗粒概述第32-33页
   ·SnO_2超细颗粒的制备第33-37页
     ·仪器与试剂第34页
     ·实验方法第34-35页
     ·结果与讨论第35-37页
     ·小结第37页
   ·V_2O_5和Nb_2O_5掺杂概述第37-38页
     ·V_2O_5掺杂概述第37-38页
     ·Nb_2O_5掺杂概述第38页
   ·本章小结第38页
   ·参考文献第38-40页
第三章 气敏元件与测试实验方法第40-47页
   ·旁热式烧结型气敏元件结构第40-42页
     ·气敏实验设备简述第40-41页
     ·气敏实验设备耗材第41-42页
   ·烧结型气敏元件制作第42-43页
   ·气敏性能测试第43-46页
     ·基本测试电路第43-44页
     ·三甲胺标准浓度气体的配制第44-45页
     ·其他标准浓度气体的配制第45-46页
   ·本章小结第46-47页
第四章 三甲胺气敏测试与结果讨论第47-63页
   ·引言第47-48页
   ·ZrO_2—V_2O_5系气敏测试与结果讨论第48-52页
     ·实验部分第48-49页
     ·结果与讨论第49-52页
   ·ZrO_2—V_2O_5—SnO_2系气敏测试与结果讨论第52-56页
     ·实验部分第52页
     ·结果与讨论第52-56页
   ·ZrO_2—V_2O_5—Nb_2O_5系气敏测试与结果讨论第56-61页
     ·实验部分第56-57页
     ·结果与讨论第57-61页
   ·本章小结第61-62页
   ·参考文献第62-63页
第五章 全文总结与展望第63-66页
致谢第66页

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