| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| ·光学相控阵技术的发展 | 第8-12页 |
| ·光学相控阵技术的发展背景 | 第8-10页 |
| ·光学相控阵技术的发展现状 | 第10-12页 |
| ·PLZT 电光薄膜的研究进展 | 第12-14页 |
| ·国际上研究进展 | 第12页 |
| ·国内研究现状 | 第12-13页 |
| ·待解决的问题 | 第13-14页 |
| ·本论文的研究背景及意义 | 第14-15页 |
| ·本课题的主要研究内容 | 第15-17页 |
| 第二章 PLZT 薄膜的制备及测试方法 | 第17-23页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第17-18页 |
| ·旋转磁场平面靶磁控溅射装置 | 第18-20页 |
| ·装置结构 | 第18-20页 |
| ·本装置优点 | 第20页 |
| ·薄膜的结构和性能测试 | 第20-23页 |
| ·微结构分析 | 第20-21页 |
| ·电学性能分析 | 第21-22页 |
| ·光学性能的表征方法 | 第22-23页 |
| 第三章 PLZT 薄膜的电学和光学性能研究 | 第23-48页 |
| ·前言 | 第23页 |
| ·实验过程 | 第23-25页 |
| ·基片清洗 | 第23-24页 |
| ·PLZT 薄膜制备 | 第24页 |
| ·表征 | 第24-25页 |
| ·氩氧比 | 第25-27页 |
| ·后处理条件对Si 基PLZT 铁电薄膜结构和性能的影响 | 第27-38页 |
| ·退火温度对薄膜微结构的影响 | 第28-31页 |
| ·介电偏压特性曲线 | 第31-35页 |
| ·电滞回线 | 第35-36页 |
| ·电滞回线的垂直偏移现象 | 第36-38页 |
| ·不同保温时间的研究 | 第38-41页 |
| ·优化工艺参数后薄膜性能研究 | 第41-47页 |
| ·PLZT 薄膜的漏电流 | 第41-42页 |
| ·ITO/石英玻璃制备PLZT薄膜结构的研究 | 第42-44页 |
| ·PLZT 薄膜的光学性能 | 第44-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 铁电薄膜电光移相器阵列光学特性分析 | 第48-65页 |
| ·引言 | 第48页 |
| ·一维规则光学相控阵理论 | 第48-51页 |
| ·一维二元相控阵 | 第49-50页 |
| ·一维规则光学相控阵 | 第50-51页 |
| ·基于PLZT 薄膜的光移相器阵列结构研究 | 第51-58页 |
| ·主旁瓣光强分布 | 第52-55页 |
| ·电场模拟 | 第55-58页 |
| ·调制光场的数学模型 | 第58-64页 |
| ·调制器的复振幅透过率函数 | 第58-60页 |
| ·调制光场的光强分布 | 第60-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第五章 结论 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |
| 攻读硕士期间研究成果 | 第73-74页 |