| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·金刚石的主要性质及其应用 | 第10-15页 |
| ·金刚石生长机理 | 第15-21页 |
| ·化学反应动力学 | 第15-18页 |
| ·基本表面及气相化学反应 | 第18-19页 |
| ·原子氢(H)的作用 | 第19-21页 |
| 第二章 金刚石薄膜的制备及表征方法 | 第21-35页 |
| ·目前金刚石薄膜主要的制备方法 | 第21-27页 |
| ·热丝法CVD (hot filament CVD) | 第21-22页 |
| ·微波等离子体辅助CVD (microwave plasma-assisted CVD) | 第22-23页 |
| ·射频等离子体辅助CVD (RF plasma-assisted CVD) | 第23-24页 |
| ·离子体辅助CVD | 第24页 |
| ·离子速谐振微波辅助CVD (ECR-MP-CVD) | 第24-25页 |
| ·燃烧火焰辅助CVD (combustion flame-assisted CVD) | 第25页 |
| ·小结 | 第25-27页 |
| ·CVD金刚石薄膜的表征方法 | 第27-35页 |
| ·拉曼光谱 | 第27-29页 |
| ·X射线衍射光谱 | 第29-30页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第30-31页 |
| ·高分辨透射电子显微镜(HRTEM) | 第31页 |
| ·俄歇电子能谱(AES)和X 射线光电子谱(XPS) | 第31页 |
| ·表面粗糙度测量及微观力学测量 | 第31-34页 |
| ·讨论 | 第34-35页 |
| 第三章 用HFCVD法在钛基底上沉积掺硼金刚石薄膜 | 第35-51页 |
| ·钛的基本性质 | 第35-37页 |
| ·实验装置 | 第37-39页 |
| ·影响金刚石薄膜生长的主要因素 | 第39-42页 |
| ·工作气体的选择 | 第39页 |
| ·灯丝选择与碳化 | 第39-40页 |
| ·衬底材料的选择 | 第40-41页 |
| ·衬底预处理 | 第41页 |
| ·真空反应室的密封 | 第41-42页 |
| ·金刚石膜的制备 | 第42-45页 |
| ·灯丝的碳化 | 第42页 |
| ·衬底基片的预处理 | 第42-43页 |
| ·掺硼 | 第43-44页 |
| ·抽真空 | 第44页 |
| ·金刚石形核 | 第44页 |
| ·金刚石膜沉积过程 | 第44-45页 |
| ·所得金刚石薄膜的物理特性 | 第45-50页 |
| ·金刚石薄膜在金相显微镜下的形貌 | 第45-46页 |
| ·金刚石薄膜的表面微观结构表征 | 第46页 |
| ·金刚石薄膜的Raman光谱图 | 第46-47页 |
| ·金刚石薄膜的XRD图 | 第47-48页 |
| ·掺杂硼含量及导电性 | 第48-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 第四章 金刚石薄膜电极电化学特性及其检测 | 第51-61页 |
| ·电极的制作 | 第51-53页 |
| ·金刚石膜电极的电化学特性 | 第51-52页 |
| ·金刚石膜电极的氧化优点 | 第52-53页 |
| ·电极制备 | 第53页 |
| ·金刚石膜电极的电化学性质研究方法 | 第53-55页 |
| ·循环伏安法 | 第53-54页 |
| ·交流阻抗法 | 第54-55页 |
| ·金刚石薄膜电化学特性实验 | 第55-56页 |
| ·实验原理 | 第55页 |
| ·实验仪器和试剂 | 第55-56页 |
| ·实验装置及实验过程 | 第56页 |
| ·结果与讨论 | 第56-57页 |
| ·加速寿命测试 | 第57-58页 |
| ·污水处理测试 | 第58-61页 |
| ·实验准备 | 第58-59页 |
| ·结果分析 | 第59-61页 |
| 第五章 总结 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-66页 |
| 攻读硕士期间发表的论文及参与的科研项目 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
