| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 概述 | 第8-19页 |
| ·高温超导材料的简介 | 第8-9页 |
| ·超导体的定义 | 第8页 |
| ·超导体的基本特征 | 第8页 |
| ·超导体的性能参数 | 第8-9页 |
| ·高温超导材料的发展历史 | 第9-11页 |
| ·高温超导材料的应用前景 | 第11-12页 |
| ·YBCO 高温超导带材的制备 | 第12-16页 |
| ·金属基带的选择 | 第12-13页 |
| ·过渡层的选择 | 第13-14页 |
| ·YBCO 超导层的制备方法 | 第14-16页 |
| ·YBCO 高温超导带材的研究现状 | 第16-17页 |
| ·本论文的研究方案与选题依据 | 第17-19页 |
| 第二章 溅射生长原理和薄膜表征方法 | 第19-28页 |
| ·溅射生长原理 | 第19页 |
| ·设备简介 | 第19-22页 |
| ·靶材-双倒筒靶 | 第20-21页 |
| ·基片转动方式 | 第21-22页 |
| ·辐射式加热 | 第22页 |
| ·薄膜的分析与表征方法 | 第22-26页 |
| ·X 射线衍射仪——XRD | 第22-23页 |
| ·原子力显微镜——AFM | 第23-24页 |
| ·扫描电镜分析——SEM | 第24-25页 |
| ·临界电流密度测试仪 | 第25页 |
| ·触针式台阶仪 | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26-28页 |
| 第三章 YYC 过渡层上YBCO 超导薄膜的工艺研究与优化 | 第28-46页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·生长温度 | 第28-32页 |
| ·生长温度对YBCO 薄膜结构的影响 | 第29-31页 |
| ·生长温度对YBCO 薄膜表面形貌的影响 | 第31-32页 |
| ·工作气压 | 第32-35页 |
| ·溅射时间 | 第35-39页 |
| ·溅射时间对薄膜结构的影响 | 第35-37页 |
| ·溅射时间对薄膜形貌的影响 | 第37-38页 |
| ·溅射时间对薄膜电学性能的影响 | 第38-39页 |
| ·模板层均方根粗糙度 | 第39-42页 |
| ·超导层面内外取向的优化 | 第42-46页 |
| ·YYC 过渡层的选取 | 第42-43页 |
| ·YBCO 超导层的结构优化 | 第43-45页 |
| ·YBCO 超导层的形貌特征 | 第45页 |
| ·YBCO 超导层的临界电流密度 | 第45-46页 |
| 第四章 YBCO 长带材的研究试制 | 第46-58页 |
| ·内嵌式台阶卷筒夹具 | 第46-51页 |
| ·轴向自动进退装置 | 第51-54页 |
| ·长带材均匀性的研究 | 第54-58页 |
| ·长带材结构均匀性 | 第55页 |
| ·长带材膜厚均匀性 | 第55-56页 |
| ·长带材电学性能的均匀性研究 | 第56-58页 |
| 第五章 结论 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第63-64页 |