| 第一章 绪论 | 第1-19页 |
| ·纳米材料与纳米结构的定义 | 第9-10页 |
| ·纳米材料的特性 | 第10-12页 |
| ·纳米材料的分类 | 第12-14页 |
| ·当前硅系纳米复合薄膜的研究及应用 | 第14-17页 |
| ·本论文的主要工作 | 第17页 |
| 参考文献 | 第17-19页 |
| 第二章 纳米复合薄膜的制备方法 | 第19-25页 |
| ·等离子体化学气相沉积技术(PCVD) | 第19页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第19-22页 |
| ·电沉积法 | 第22页 |
| ·高速超微粒子沉淀法(气相沉淀法) | 第22页 |
| ·溅射法(Sputtering) | 第22-23页 |
| ·热分解化学气相沉积技术(CVD) | 第23页 |
| ·LB膜技术 | 第23-25页 |
| 第三章 多孔硅膜的制备及表征 | 第25-49页 |
| ·多孔硅的基本理论 | 第25-28页 |
| ·实验装置 | 第28-29页 |
| ·电化学阳极氧化腐蚀制备P型多孔硅 | 第29-35页 |
| ·电化学阳极氧化腐蚀制备N型多孔硅 | 第35-37页 |
| ·选择性形成多孔硅 | 第37-43页 |
| ·基于多孔硅膜的基因芯片的初步研究 | 第43-46页 |
| ·本章小结 | 第46页 |
| 参考文献 | 第46-49页 |
| 第四章 纳米羟基磷酸钙／多孔硅复合薄膜材料的制备与表征 | 第49-59页 |
| ·引言 | 第49-50页 |
| ·目前出现的羟基磷酸钙的制备方法介绍 | 第50-52页 |
| ·Sol-Gel法制备羟基磷酸钙溶胶的反应原理及工艺流程 | 第52-53页 |
| ·羟基磷酸钙／多孔硅薄膜的制备与表征 | 第53-54页 |
| ·结果与讨论 | 第54-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-59页 |
| 第五章 纳米氧化锌／多孔硅结构的制备与表征 | 第59-72页 |
| ·引言 | 第59-61页 |
| ·用热蒸发法在多孔硅衬底上制备ZnO纳米结构 | 第61-65页 |
| ·溶胶凝胶法制备纳米氧化锌／多孔硅复合薄膜材料 | 第65-70页 |
| ·小结 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-72页 |
| 第六章 总结 | 第72-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第75-76页 |