| 摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-4页 |
| 目录 | 第4-6页 |
| 1 绪论 | 第6-8页 |
| 1．1 课题研究的目的和重要性 | 第6页 |
| 1．2 课题研究的现状和发展情况 | 第6-7页 |
| 1．3 论文研究的主要工作和重点 | 第7页 |
| 1．4 技术关键 | 第7-8页 |
| 2 各种测量方法及比较 | 第8-13页 |
| 2．1 光度法 | 第8页 |
| 2．2 利用波导原理的棱镜耦合法 | 第8页 |
| 2．3 椭圆偏振法 | 第8-11页 |
| 2．3．1 椭圆偏振法测量原理 | 第8-11页 |
| 2．3．2 测量方法 | 第11页 |
| 2．4 几种测量方法比较 | 第11-13页 |
| 3 测试系统 | 第13-16页 |
| 3．1 光谱椭偏仪简介 | 第13-14页 |
| 3．2 系统组成 | 第14-16页 |
| 3．2．1 光源系统 | 第15页 |
| 3．2．2 样品台及调整系统 | 第15页 |
| 3．2．3 检测系统 | 第15-16页 |
| 4 可变角度光谱椭偏仪(VASE)数据分析的理论 | 第16-20页 |
| 4．1 理论基础 | 第16页 |
| 4．2 数据分析理论 | 第16-18页 |
| 4．3 数学公式模型化 | 第18-20页 |
| 5 VASE数据处理模型的建立 | 第20-25页 |
| 5．1 参数值的最初预测 | 第20页 |
| 5．2 建立一个适当的光学模型 | 第20-21页 |
| 5．3 参数灵敏度和相关性 | 第21-23页 |
| 5．4 最大化灵敏度：优化入射角度 | 第23-25页 |
| 6 VASE对各种光学薄膜的测量及实验手段 | 第25-38页 |
| 6．1 NIST标准块SRM2531测试 | 第25页 |
| 6．2 NIST标准块SRM2533测试 | 第25-26页 |
| 6．3 Woollam标准器测试 | 第26-27页 |
| 6．4 JAW-glass标准器测试 | 第27-28页 |
| 6．5 ONOPO／Si | 第28-29页 |
| 6．6 光阻材料的光学常量 | 第29-30页 |
| 6．7 Al_xGa_(1-x)As多层结构 | 第30-31页 |
| 6．8 光学涂层 | 第31-32页 |
| 6．8．1 五层Hi-Lo指标堆积 | 第31页 |
| 6．8．2 光学涂层指标相对于深度的多样性 | 第31-32页 |
| 6．9 类金刚石碳(DLC) | 第32-33页 |
| 6．10 薄的磁性薄膜的厚度 | 第33-34页 |
| 6．11 铟锡氧化物(ITO：Indium Tin Oxide)薄膜 | 第34页 |
| 6．12 薄膜晶体管(Thin-Film Transistors—TFT)结构 | 第34-35页 |
| 6．13 聚酰亚胺(各向异性材料)测试 | 第35-38页 |
| 7 测量的不确定度及重复性分析及实例 | 第38-43页 |
| 7．1 测量的不确定度分析 | 第38页 |
| 7．2 光学薄膜参数测量装置的标定 | 第38页 |
| 7．3 测量的不确定度及重复性和实例 | 第38-43页 |
| 7．3．1 测量条件和数据处理方式 | 第39页 |
| 7．3．2 谱椭偏仪ψ和Δ误差(空气测量法) | 第39-40页 |
| 7．3．3 重复性测量 | 第40-41页 |
| 7．3．4 光谱椭偏仪厚度测量不确定度和折射率测量不确定度 | 第41-43页 |
| 结论 | 第43-44页 |
| 致谢 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-46页 |
