多孔硅的形成及其光谱研究
| 第—章 多孔硅研究综述 | 第1-14页 |
| §1．1 多孔硅的制备过程 | 第5-6页 |
| §1．2 多孔硅的研究方法 | 第6-7页 |
| §1．3 多孔硅的结构性质 | 第7-8页 |
| §1．4 PS的光致发光性 | 第8-9页 |
| §1．5 光发射模型 | 第9-14页 |
| 第二章 仪器及系统的组成 | 第14-18页 |
| §2．1 系统组成及工作原理 | 第14-17页 |
| §2．2 软件参数的设置 | 第17-18页 |
| 第三章 样品的制备及室 | 第18-32页 |
| §3．1 样品的制备 | 第18-25页 |
| §3．1．1 样品池介绍 | 第18-19页 |
| §3．1．2 样品形成理论 | 第19-20页 |
| §3．1．3 样品制备介绍 | 第20-21页 |
| §3．1．4 实验样品的制备 | 第21-25页 |
| §3．2 多孔硅光致发光 | 第25-31页 |
| §3．2．1 光致发光原理 | 第25-26页 |
| §3．2．2 PS的室温光致发光研究 | 第26-31页 |
| §3．3 小结 | 第31-32页 |
| 第四章 多孔硅的低温光谱研究 | 第32-45页 |
| §4．1 引言 | 第32-33页 |
| §4．2 测量结果 | 第33-35页 |
| §4．3 低温光谱研究实验数据分析 | 第35-44页 |
| §4．4 小结 | 第44-45页 |
| 总结 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-50页 |
| 致谢 | 第50页 |
