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SiC MOS器件和电路温度特性的研究

摘要第1-7页
Abstract第7-12页
第一章 绪论第12-18页
   ·SiC材料优势第12-13页
   ·SiC MOS器件和电路研究动态第13-16页
     ·SiC MOS器件研究第13-15页
     ·具有温度稳定性的SiC MOS电路研究第15-16页
   ·本文的主要工作第16-18页
第二章 SiC材料和MOS器件温度特性的研究第18-55页
   ·SiC材料特性第18-23页
     ·本征载流子浓度和禁带宽度第18-19页
     ·SiC材料杂质的离化率第19-20页
     ·体迁移率第20-21页
     ·SiC材料的碰撞离化和临界电场第21-22页
     ·SiC材料的各向异性第22-23页
     ·SiC材料电子空穴对产生复合第23页
   ·6H-SiC MOSFET界面陷阱效应的研究第23-37页
     ·界面陷阱电荷与界面固定电荷的分离方法第24-27页
     ·不同温度下界面陷阱模型参数的提取第27-32页
     ·界面陷落电荷的计算模型第32-34页
     ·不同温度下界面陷阱对6H-SiC MOS器件直流特性的影响第34-36页
     ·界面陷落电荷对器件瞬态特性的影响第36-37页
   ·温度影响下各散射机制对表面迁移率的影响第37-42页
     ·表面声子散射第38页
     ·表面粗糙散射第38页
     ·界面陷落电荷库伦散射第38-40页
     ·界面有效垂直电场的计算第40页
     ·仿真结果及讨论第40-42页
   ·各向异性6H-SiC MOSFET击穿的温度特性第42-48页
     ·仿真所采用的器件模型第42-43页
     ·6H-SiC MOSFET的雪崩击穿第43-45页
     ·载流子碰撞离化的各向异性第45页
     ·6H-SiC MOSFET击穿现象的温度特性第45-47页
     ·6H-SiC MOSFET的各向异性击穿现象第47-48页
   ·温度影响下6H-SiC埋沟PMOSFET特性的影响第48-54页
     ·杂质的不完全离化和电流解析模型的建立第48-50页
     ·结果及讨论第50-54页
   ·本章小结第54-55页
第三章 6H-SiC CMOS数字倒相器温度特性的研究第55-60页
   ·SiC CMOS的电路结构第55-56页
   ·CMOS反相器的直流特性第56-57页
   ·静态参数的提取第57-58页
     ·门阈值电压第57页
     ·噪声容限第57-58页
   ·仿真结果及讨论第58-59页
     ·传输特性随温度的变化第58-59页
     ·阈值电压和噪声容限随温度变化第59页
   ·本章小结第59-60页
第四章 SiC CMOS OPAMP温度特性的研究第60-82页
   ·直流偏置第60-65页
     ·零温度系数点存在的必要条件第60-62页
     ·6H-SiC MOST零温度系数点的求解第62-64页
     ·ZTC点栅偏置电压方程第64-65页
   ·高温CMOS模拟集成电路的设计规则第65-68页
   ·偏置电压的产生第68-69页
   ·差分输入级设计第69-70页
   ·输出级第70-71页
   ·6H-SiC CMOS运算放大器温度特性的研究第71-81页
     ·阈值电压随温度的变化第71页
     ·沟道有效迁移率随温度的变化第71-72页
     ·泄漏电流随温度的变化第72-73页
     ·栅跨导的温度特性第73-74页
     ·小信号输出电导的温度特性第74-75页
     ·差分放大器的小信号电压增益的温度特性第75-76页
     ·CMOS差分放大器的共模抑制比(CMRR)第76-77页
     ·6H-SiC CMOS运放的温度特性第77-81页
   ·本章小结第81-82页
第五章 实验和版图第82-94页
   ·版图设计和工艺流程第82-88页
     ·版图设计第82-86页
     ·工艺流程第86-88页
   ·离子注入杂质分布的模拟第88-90页
   ·欧姆接触工艺研究第90-92页
   ·4H-SiC NMOSFET实验结果第92-93页
   ·本章小结第93-94页
第六章 结束语第94-97页
致谢第97-98页
参考文献第98-103页
攻读博士学位期间参加的科研项目及完成的学术论文第103-104页

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