| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·TiO_2 薄膜的光催化技术与原理 | 第10-12页 |
| ·光激发带间跃迁过程 | 第11页 |
| ·光生电子、空穴和表面吸附态离子相互作用过程 | 第11-12页 |
| ·提高TiO_2 薄膜光催化活性的途径 | 第12-14页 |
| ·TiO_2 的晶体结构 | 第12-14页 |
| ·纳米TiO_2 薄膜的制备方法 | 第14-16页 |
| ·化学气相沉积法 | 第14-15页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第15页 |
| ·液相沉积法 | 第15页 |
| ·真空蒸镀法 | 第15-16页 |
| ·溅射法 | 第16页 |
| ·本课题研究的意义及内容 | 第16-19页 |
| ·本课题的提出 | 第16-17页 |
| ·国内外光催化研究的进展 | 第17-18页 |
| ·本课题的研究内容 | 第18-19页 |
| 第二章 直流脉冲磁控溅射系统及TiO_2薄膜的制备 | 第19-30页 |
| ·引言 | 第19页 |
| ·直流脉冲磁控溅射系统简介 | 第19-22页 |
| ·直流脉冲电源工作原理及特点 | 第19-20页 |
| ·直流脉冲磁控溅射系统及技术特点 | 第20-22页 |
| ·TiO_2 薄膜的制备 | 第22-23页 |
| ·玻璃衬底的清洗 | 第22-23页 |
| ·TiO_2 薄膜制备工艺流程 | 第23页 |
| ·TiO_2 薄膜表征所使用的测试技术 | 第23-29页 |
| ·TiO_2 薄膜厚度的表征 | 第23-24页 |
| ·TiO_2 薄膜光学性能表征 | 第24-25页 |
| ·X 射线光电子能谱(XPS)分析 | 第25页 |
| ·X 射线衍射(XRD)分析 | 第25-26页 |
| ·原子力显微镜(AFM 分析) | 第26-27页 |
| ·光催化性能的表征 | 第27-28页 |
| ·亲水性能的表征 | 第28-29页 |
| 本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 O_2/AR 比例对TiO_2薄膜性能的影响 | 第30-44页 |
| ·实验 | 第30页 |
| ·沉积速率分析 | 第30-31页 |
| ·可见光平均透过率 | 第31-32页 |
| ·X 射线光电子能谱(XPS)分析 | 第32-35页 |
| ·X 射线衍射(XRD)分析 | 第35-37页 |
| ·表面形貌分析 | 第37-40页 |
| ·光催化性能分析 | 第40-42页 |
| ·光致亲水性分析 | 第42-43页 |
| 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 工作气压对TiO_2薄膜性能的影响 | 第44-54页 |
| ·实验 | 第44页 |
| ·沉积速率分析 | 第44-45页 |
| ·可见光透过率分析 | 第45-46页 |
| ·X 射线衍射(XRD)分析 | 第46-49页 |
| ·表面形貌分析 | 第49-50页 |
| ·光催化性能分析 | 第50-52页 |
| ·光致亲水性能分析 | 第52页 |
| 本章小结 | 第52-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |