| 致谢 | 第9-10页 |
| 摘要 | 第10-12页 |
| ABSTRACT | 第12-14页 |
| 英文缩写的中文含义 | 第21-22页 |
| 第1章 绪论 | 第22-46页 |
| 1.1 引言 | 第22-23页 |
| 1.2 半导体光催化材料的基础理论 | 第23-27页 |
| 1.2.1 能带理论 | 第23-25页 |
| 1.2.2 半导体光电化学理论 | 第25-27页 |
| 1.3 二氧化钛结构及其光催化原理 | 第27-36页 |
| 1.3.1 二氧化钛晶体结构 | 第27-29页 |
| 1.3.2 TiO_2光催化基本原理 | 第29-32页 |
| 1.3.3 二氧化钛光催化活性的影响因素及其存在的问题 | 第32-35页 |
| 1.3.4 二氧化钛光催化过程存在的问题 | 第35-36页 |
| 1.4 本文研究的目的和主要内容 | 第36-38页 |
| 1.4.1 研究目的 | 第36页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第36-38页 |
| 参考文献 | 第38-46页 |
| 第2章 Li-TiO_2/SO4~(2-)催化剂的制备及其光催化性能 | 第46-70页 |
| 2.1 引言 | 第46-49页 |
| 2.2 实验部分 | 第49-51页 |
| 2.2.1 实验试剂 | 第49页 |
| 2.2.2 实验设备 | 第49-50页 |
| 2.2.3 Li-TiO_2/S_4~(2-)催化剂的制备 | 第50页 |
| 2.2.4 Li-TiO_2/S_4~(2-)催化剂表征 | 第50页 |
| 2.2.5 光催化性能评价 | 第50-51页 |
| 2.3 分析与讨论 | 第51-63页 |
| 2.3.1 XRD分析 | 第51-52页 |
| 2.3.2 TEM和DLS分析 | 第52-54页 |
| 2.3.3 UV-vis DRS分析 | 第54-55页 |
| 2.3.4 FT-IR分析 | 第55-56页 |
| 2.3.5 XPS分析 | 第56-57页 |
| 2.3.6 光催化性能评价 | 第57-63页 |
| 2.4 本章小结 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 第3章 B-TiO_2/SO_4~(2-)催化剂的制备及其光催化性能 | 第70-91页 |
| 3.1 引言 | 第70-72页 |
| 3.2 实验部分 | 第72-73页 |
| 3.2.1 实验试剂 | 第72页 |
| 3.2.2 实验设备 | 第72页 |
| 3.2.3 B-TiO_2/SO_4~(2-)催化剂的制备 | 第72-73页 |
| 3.2.4 B-TiO_2/SO_4~(2-)催化剂表征 | 第73页 |
| 3.2.5 光催化性能评价 | 第73页 |
| 3.3 分析与讨论 | 第73-86页 |
| 3.3.1 XRD分析 | 第73-74页 |
| 3.3.2 颗粒形貌及粒度 | 第74页 |
| 3.3.3 UV-vis DRS分析 | 第74-77页 |
| 3.3.4 表面分析 | 第77-81页 |
| 3.3.5 光催化性能 | 第81-85页 |
| 3.3.6 B-TiO_2/SO_4~(2-)光催化机理 | 第85-86页 |
| 3.4 本章小结 | 第86-87页 |
| 参考文献 | 第87-91页 |
| 第4章 黑色等带隙氧化钛的制备及其光催化性能 | 第91-118页 |
| 4.1 引言 | 第91-95页 |
| 4.2 实验部分 | 第95-96页 |
| 4.2.1 实验试剂 | 第95页 |
| 4.2.2 实验设备 | 第95-96页 |
| 4.2.3 碳、氮、硫三元共掺杂氧化钛光催化剂的制备 | 第96页 |
| 4.2.4 碳、氮、硫三元共掺杂氧化钛光催化剂表征 | 第96页 |
| 4.2.5 光催化性能评价 | 第96页 |
| 4.3 分析与讨论 | 第96-110页 |
| 4.3.1 XRD分析 | 第96-98页 |
| 4.3.2 TEM分析 | 第98-99页 |
| 4.3.3 UV-vis DRS分析 | 第99-101页 |
| 4.3.4 Raman光谱分析 | 第101-102页 |
| 4.3.5 PL谱分析 | 第102页 |
| 4.3.6 XPS分析 | 第102-109页 |
| 4.3.7 光电催化性能 | 第109-110页 |
| 4.4 本章小结 | 第110-111页 |
| 参考文献 | 第111-118页 |
| 第5章 SiC表面氧化层调控及其光催化活性 | 第118-146页 |
| 5.1 引言 | 第118-123页 |
| 5.2 实验部分 | 第123-124页 |
| 5.2.1 实验试剂 | 第123页 |
| 5.2.2 实验设备 | 第123-124页 |
| 5.2.3 SiC光催化剂的表面浸蚀处理 | 第124页 |
| 5.2.4 SiC光催化剂表征 | 第124页 |
| 5.2.5 光催化性能评价 | 第124页 |
| 5.3 分析与讨论 | 第124-139页 |
| 5.3.1 浸蚀条件对SiC光催化性能的影响 | 第124-131页 |
| 5.3.2 光催化条件对亚甲基蓝降解率的影响 | 第131-136页 |
| 5.3.3 浸蚀SiC与未浸蚀SiC光催化性能的对比 | 第136页 |
| 5.3.4 表面薄化SiC的光催化机理 | 第136-139页 |
| 5.4 结论 | 第139-140页 |
| 参考文献 | 第140-146页 |
| 第6章 全文总结 | 第146-149页 |
| 6.1 主要研究成果 | 第146-147页 |
| 6.2 主要创新点 | 第147页 |
| 6.3 研究展望 | 第147-149页 |
| 攻读博士学位期间的学术活动及成果情况 | 第149-150页 |
