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可见—近红外半导体纳米线光电探测器的光电调控新机理研究

本论文的创新点第5-8页
摘要第8-10页
Abstract第10-12页
第一章 绪论第13-30页
    1.1 引言第13-14页
    1.2 维纳米材料第14-15页
    1.3 一维半导体纳米线的可控制备第15-17页
    1.4 光电探测器第17-26页
        1.4.1 光电探测器简介第17-19页
        1.4.2 光电探测器的特性参数第19-22页
        1.4.3 一维半导体纳米线光电探测器的研究现状第22-26页
    1.5 本论文的选题意义和主要研究内容第26-29页
        1.5.1 本论文研究的目的和意义第26-27页
        1.5.2 本论文的主要研究内容第27-29页
    1.6 本章小结第29-30页
第二章 铁电局域场增强InP纳米线可见-近红外光电探测器第30-49页
    2.1 引言第30-31页
    2.2 实验过程第31-33页
        2.2.1 InP纳米线的制备与表征第31-32页
        2.2.2 铁电侧栅单根InP纳米线光电探测器的制备与性能测试第32-33页
    2.3 InP纳米线的表征第33-35页
    2.4 单根InP纳米线背栅FET的电学与光电性能研究第35-37页
    2.5 铁电侧栅单根InP纳米线光电探测器的光电性能研究第37-47页
        2.5.1 铁电局域场增强纳米线FET的极化机制第37-40页
        2.5.2 铁电侧栅单根InP纳米线光电探测器的光响应机制第40-41页
        2.5.3 铁电侧栅单根InP纳米线光电探测器的光响应特性测试第41-47页
    2.6 本章小结第47-49页
第三章 铁电侧栅CdS纳米线紫外-可见光光电探测器第49-68页
    3.1 引言第49-50页
    3.2 CdS纳米线的生长及其光电探测器的制备与测试第50-51页
    3.3 CdS纳米线的表征第51-52页
    3.4 单根CdS纳米线背栅FET的电学与光电性能第52-53页
    3.5 铁电侧栅单根CdS纳米线光电探测器的光电性能研究第53-66页
        3.5.1 单根CdS纳米线光电探测器的扫描光电流测试第53-54页
        3.5.2 铁电侧栅单根CdS纳米线紫外光电探测器的光电性能研究第54-63页
        3.5.3 铁电侧栅单根CdS纳米线可见光光电探测器的光电性能研究第63-66页
    3.6 本章小结第66-68页
第四章 p型SnX(X=Se,S)纳米线可见-近红外光电探测器第68-86页
    4.1 引言第68-69页
    4.2 SnX(X=Se,S)纳米线的合成及其光电探测器的制备与测试第69-70页
    4.3 SnSe纳米线的表征及其电学和光电性能研究第70-79页
        4.3.1 SnSe纳米线的表征第70-71页
        4.3.2 单根SnSe纳米线FET的电学性能第71-72页
        4.3.3 单根SnSe纳米线光电探测器的光电性能研究第72-79页
    4.4 SnS纳米线的表征及其电学和光电性能研究第79-85页
        4.4.1 SnS纳米线的表征第79-80页
        4.4.2 单根SnS纳米线FET的电学性能第80页
        4.4.3 单根SnS纳米线光电探测器的光电性能研究第80-85页
    4.5 本章小结第85-86页
第五章 总结与展望第86-89页
    5.1 主要研究成果与结论第86-88页
    5.2 后续工作与展望第88-89页
参考文献第89-99页
攻读博士学位期间发表论文目录第99-100页
致谢第100-101页

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