摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
第一章 绪论 | 第8-18页 |
1.1 引言 | 第8页 |
1.2 ZnO的基本性质 | 第8-11页 |
1.2.1 ZnO的晶体结构 | 第8-10页 |
1.2.2 ZnO的物理性质 | 第10页 |
1.2.3 ZnO的能带结构 | 第10-11页 |
1.3 ZnO的缺陷和导电机制 | 第11-13页 |
1.4 ZnO薄膜的主要应用 | 第13-14页 |
1.4.1 透明电极 | 第13页 |
1.4.2 面发热膜 | 第13页 |
1.4.3 红外反射膜 | 第13-14页 |
1.4.4 其他方面应用 | 第14页 |
1.5 ZnO制备技术 | 第14-16页 |
1.5.1 磁控溅射 | 第14-15页 |
1.5.2 溶胶-凝胶法 | 第15页 |
1.5.3 化学气相沉积 | 第15-16页 |
1.5.4 脉冲激光沉积 | 第16页 |
1.5.5 分子束外延 | 第16页 |
1.6 本文研究内容及其意义 | 第16-18页 |
第二章 ZnO薄膜的制备方法及表征手段 | 第18-27页 |
2.1 ZnO薄膜制备设备及原理 | 第18-21页 |
2.1.1 磁控溅射设备 | 第18-19页 |
2.1.2 磁控溅射原理 | 第19-20页 |
2.1.3 溶胶-凝胶设备 | 第20-21页 |
2.2 ZnO薄膜制备工艺 | 第21-23页 |
2.2.1 衬底的清洗 | 第21页 |
2.2.2 磁控溅射制备工艺 | 第21-23页 |
2.2.3 溶胶-凝胶镀膜工艺 | 第23页 |
2.3 ZnO薄膜表征手段 | 第23-27页 |
2.3.1 X射线衍射技术(XRD) | 第23-24页 |
2.3.2 扫描电子显微镜分析(SEM) | 第24页 |
2.3.3 紫外-可见分光光度计(UV-VIS) | 第24-25页 |
2.3.4 光致发光光谱(PL) | 第25页 |
2.3.5 四探针法 | 第25-27页 |
第三章 LWZO薄膜层生长工艺及性能研究 | 第27-48页 |
3.1 正交实验的研究 | 第27-29页 |
3.1.1 因素的选取 | 第27-28页 |
3.1.3 实验结果分析 | 第28-29页 |
3.2 溅射功率对ZnO薄膜的性能影响 | 第29-34页 |
3.2.1 溅射功率对LWZO薄膜微观结构的影响 | 第29-31页 |
3.2.2 溅射功率对LWZO薄膜光学性能的影响 | 第31-33页 |
3.2.3 溅射功率对LWZO薄膜电学性能的影响 | 第33-34页 |
3.3 靶衬间距对LWZO薄膜的性能影响 | 第34-38页 |
3.3.1 靶间距对LWZO薄膜微观结构的影响 | 第35-36页 |
3.3.2 靶间距对LWZO薄膜光学性能的影响 | 第36-38页 |
3.3.3 靶间距对LWZO薄膜电学性能的影响 | 第38页 |
3.4 衬底温度对LWZO薄膜的性能影响 | 第38-43页 |
3.4.1 衬底温度对LWZO薄膜微观结构的影响 | 第39-40页 |
3.4.2 衬底温度对LWZO薄膜光学性能的影响 | 第40-42页 |
3.4.3 衬底温度对LWZO薄膜电学性能的影响 | 第42-43页 |
3.5 偏压对LWZO薄膜的光电学影响 | 第43-47页 |
3.5.1 偏压对LWZO薄膜微观结构的影响 | 第43-44页 |
3.5.2 偏压对LWZO薄膜光学性能的影响 | 第44-46页 |
3.5.3 偏压对LWZO薄膜电学性能的影响 | 第46-47页 |
3.6 小结 | 第47-48页 |
第四章 溶胶-凝胶法制备ZnO薄膜的性能研究 | 第48-56页 |
4.1 实验药品 | 第48页 |
4.2 溶胶制备与退火处理 | 第48-49页 |
4.2.1 溶胶制备 | 第48-49页 |
4.2.2 退火处理 | 第49页 |
4.3 溶胶-凝胶法制备ZnO薄膜的性能研究 | 第49-54页 |
4.3.1 不同浓度Li和Mg共掺杂对ZnO薄膜的影响 | 第49-52页 |
4.3.2 不同层数对AZO薄膜的影响 | 第52-54页 |
4.4 小结 | 第54-56页 |
第五章 总结与展望 | 第56-58页 |
6.1 总结 | 第56页 |
6.2 展望 | 第56-58页 |
致谢 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-64页 |
附录: 硕士期间的科研成果及获得荣誉 | 第64页 |