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ZnO-TCO掺杂性能的研究

摘要第3-4页
Abstract第4-5页
第一章 绪论第8-18页
    1.1 引言第8页
    1.2 ZnO的基本性质第8-11页
        1.2.1 ZnO的晶体结构第8-10页
        1.2.2 ZnO的物理性质第10页
        1.2.3 ZnO的能带结构第10-11页
    1.3 ZnO的缺陷和导电机制第11-13页
    1.4 ZnO薄膜的主要应用第13-14页
        1.4.1 透明电极第13页
        1.4.2 面发热膜第13页
        1.4.3 红外反射膜第13-14页
        1.4.4 其他方面应用第14页
    1.5 ZnO制备技术第14-16页
        1.5.1 磁控溅射第14-15页
        1.5.2 溶胶-凝胶法第15页
        1.5.3 化学气相沉积第15-16页
        1.5.4 脉冲激光沉积第16页
        1.5.5 分子束外延第16页
    1.6 本文研究内容及其意义第16-18页
第二章 ZnO薄膜的制备方法及表征手段第18-27页
    2.1 ZnO薄膜制备设备及原理第18-21页
        2.1.1 磁控溅射设备第18-19页
        2.1.2 磁控溅射原理第19-20页
        2.1.3 溶胶-凝胶设备第20-21页
    2.2 ZnO薄膜制备工艺第21-23页
        2.2.1 衬底的清洗第21页
        2.2.2 磁控溅射制备工艺第21-23页
        2.2.3 溶胶-凝胶镀膜工艺第23页
    2.3 ZnO薄膜表征手段第23-27页
        2.3.1 X射线衍射技术(XRD)第23-24页
        2.3.2 扫描电子显微镜分析(SEM)第24页
        2.3.3 紫外-可见分光光度计(UV-VIS)第24-25页
        2.3.4 光致发光光谱(PL)第25页
        2.3.5 四探针法第25-27页
第三章 LWZO薄膜层生长工艺及性能研究第27-48页
    3.1 正交实验的研究第27-29页
        3.1.1 因素的选取第27-28页
        3.1.3 实验结果分析第28-29页
    3.2 溅射功率对ZnO薄膜的性能影响第29-34页
        3.2.1 溅射功率对LWZO薄膜微观结构的影响第29-31页
        3.2.2 溅射功率对LWZO薄膜光学性能的影响第31-33页
        3.2.3 溅射功率对LWZO薄膜电学性能的影响第33-34页
    3.3 靶衬间距对LWZO薄膜的性能影响第34-38页
        3.3.1 靶间距对LWZO薄膜微观结构的影响第35-36页
        3.3.2 靶间距对LWZO薄膜光学性能的影响第36-38页
        3.3.3 靶间距对LWZO薄膜电学性能的影响第38页
    3.4 衬底温度对LWZO薄膜的性能影响第38-43页
        3.4.1 衬底温度对LWZO薄膜微观结构的影响第39-40页
        3.4.2 衬底温度对LWZO薄膜光学性能的影响第40-42页
        3.4.3 衬底温度对LWZO薄膜电学性能的影响第42-43页
    3.5 偏压对LWZO薄膜的光电学影响第43-47页
        3.5.1 偏压对LWZO薄膜微观结构的影响第43-44页
        3.5.2 偏压对LWZO薄膜光学性能的影响第44-46页
        3.5.3 偏压对LWZO薄膜电学性能的影响第46-47页
    3.6 小结第47-48页
第四章 溶胶-凝胶法制备ZnO薄膜的性能研究第48-56页
    4.1 实验药品第48页
    4.2 溶胶制备与退火处理第48-49页
        4.2.1 溶胶制备第48-49页
        4.2.2 退火处理第49页
    4.3 溶胶-凝胶法制备ZnO薄膜的性能研究第49-54页
        4.3.1 不同浓度Li和Mg共掺杂对ZnO薄膜的影响第49-52页
        4.3.2 不同层数对AZO薄膜的影响第52-54页
    4.4 小结第54-56页
第五章 总结与展望第56-58页
    6.1 总结第56页
    6.2 展望第56-58页
致谢第58-59页
参考文献第59-64页
附录: 硕士期间的科研成果及获得荣誉第64页

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