| 中文摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第7-13页 |
| 1.1 研究背景和意义 | 第7-9页 |
| 1.2 透明导电薄膜 | 第9-11页 |
| 1.2.1 透明导电薄膜的分类 | 第9页 |
| 1.2.2 透明导电氧化物薄膜 | 第9-10页 |
| 1.2.3 柔性基透明导电薄膜 | 第10-11页 |
| 1.3 文章主要研究内容及结构安排 | 第11-13页 |
| 1.3.1 主要研究内容 | 第11-12页 |
| 1.3.2 文章结构安排 | 第12页 |
| 1.3.3 论文创新点 | 第12-13页 |
| 第二章ZAO透明导电薄膜 | 第13-22页 |
| 2.1 ZNO材料简介 | 第13-15页 |
| 2.1.1 ZnO的结构 | 第13页 |
| 2.1.2 ZnO薄膜的性质 | 第13-15页 |
| 2.2 ZAO薄膜 | 第15页 |
| 2.3 ZAO薄膜的制备 | 第15-19页 |
| 2.4 ZAO薄膜的应用 | 第19-21页 |
| 2.5 本章总结 | 第21-22页 |
| 第三章 薄膜的制备及表征 | 第22-35页 |
| 3.1 引言 | 第22页 |
| 3.2 薄膜的制备 | 第22-27页 |
| 3.2.1 实验设备 | 第22-25页 |
| 3.2.2 实验材料 | 第25-26页 |
| 3.2.3 薄膜制备流程 | 第26-27页 |
| 3.3 薄膜的表征 | 第27-34页 |
| 3.3.1 附着力测试仪 | 第27-29页 |
| 3.3.2 X射线衍射仪 | 第29页 |
| 3.3.3 扫描电子显微镜 | 第29-30页 |
| 3.3.4 四探针测试仪 | 第30-32页 |
| 3.3.5 椭偏仪 | 第32-33页 |
| 3.3.6 紫外可见分光光度计 | 第33-34页 |
| 3.4 本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 柔性衬底上制备ZAO薄膜的特性分析 | 第35-54页 |
| 4.1 引言 | 第35页 |
| 4.2 氩气压强对ZAO薄膜性质的影响 | 第35-41页 |
| 4.2.1 氩气压强对ZAO薄膜结构的影响 | 第35-38页 |
| 4.2.2 氩气压强对ZAO薄膜表面形貌的影响 | 第38-39页 |
| 4.2.3 氩气压强对ZAO薄膜电学特性的影响 | 第39-40页 |
| 4.2.4 氩气压强对ZAO薄膜光学特性的影响 | 第40-41页 |
| 4.3 溅射功率对ZAO薄膜性质的影响 | 第41-46页 |
| 4.3.1 溅射功率对ZAO薄膜结构的影响 | 第41-44页 |
| 4.3.2 溅射功率对ZAO薄膜表面形貌的影响 | 第44页 |
| 4.3.3 溅射功率对ZAO薄膜电学特性的影响 | 第44-45页 |
| 4.3.4 溅射功率对ZAO薄膜光学特性的影响 | 第45-46页 |
| 4.4 溅射时间对ZAO薄膜性质的影响 | 第46-50页 |
| 4.4.1 溅射时间对ZAO薄膜结构的影响 | 第46-48页 |
| 4.4.2 溅射时间对ZAO薄膜表面形貌的影响 | 第48页 |
| 4.4.3 溅射时间对ZAO薄膜电学特性的影响 | 第48-49页 |
| 4.4.4 溅射时间对ZAO薄膜光学特性的影响 | 第49-50页 |
| 4.5 不同衬底上沉积的ZAO薄膜性能对比 | 第50-53页 |
| 4.5.1 不同衬底上沉积的ZAO薄膜结构对比 | 第50-51页 |
| 4.5.2 不同衬底上沉积的ZAO薄膜表面形貌对比 | 第51页 |
| 4.5.3 不同衬底上沉积的ZAO薄膜电学特性对比 | 第51-52页 |
| 4.5.4 不同衬底上沉积的ZAO薄膜光学特性对比 | 第52-53页 |
| 4.6 本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 总结 | 第54-56页 |
| 5.1 本文总结 | 第54-55页 |
| 5.2 本文展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 硕士期间发表论文情况 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
