小型激光直写系统的设计与实现
| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-20页 |
| 1.1 光刻技术研究背景 | 第11-13页 |
| 1.2 激光直写技术的发展历程 | 第13-18页 |
| 1.3 本文的主要工作及研究意义 | 第18页 |
| 1.4 本论文结构安排 | 第18-20页 |
| 第二章 激光直写基本原理 | 第20-25页 |
| 2.1 运动控制原理 | 第20-21页 |
| 2.2 空间中激光传播原理 | 第21-23页 |
| 2.3 自动聚焦原理 | 第23-24页 |
| 2.4 本章小结 | 第24-25页 |
| 第三章 激光直写系统的设计与实现 | 第25-42页 |
| 3.1 基于显微镜系统的硬件设计 | 第25-28页 |
| 3.1.1 光束质量对光刻的影响 | 第26-27页 |
| 3.1.2 像散法自动聚焦评测 | 第27-28页 |
| 3.2 基于笼式系统的小型激光直写系统 | 第28-35页 |
| 3.2.1 小型激光直写系统的光路部分 | 第29-34页 |
| 3.2.2 小型激光直写系统的控制部分 | 第34-35页 |
| 3.3 基于LabVIEW的软件设计 | 第35-41页 |
| 3.3.1 FPGA运行程序 | 第35-39页 |
| 3.3.2 计算机运行程序 | 第39-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 激光直写系统的调试与刻写实现 | 第42-47页 |
| 4.1 自动聚焦联动测试 | 第42-44页 |
| 4.2 聚焦位置及激光能量的确认 | 第44-46页 |
| 4.3 本章小结 | 第46-47页 |
| 第五章 光刻工艺优化与微器件制作 | 第47-56页 |
| 5.1 光刻胶的选择与甩胶工艺优化 | 第47-48页 |
| 5.2 光刻流程与优化 | 第48-50页 |
| 5.3 金属剥离工艺 | 第50-55页 |
| 5.3.1 单层正胶剥离工艺研究 | 第50-52页 |
| 5.3.2 双层胶剥离工艺研究 | 第52-55页 |
| 5.4 微器件的制作 | 第55页 |
| 5.5 本章小结 | 第55-56页 |
| 第六章 总结 | 第56-58页 |
| 6.1 全文内容总结 | 第56-57页 |
| 6.2 展望 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-66页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第66页 |
