钨中近表面氦泡行为的分子动力学模拟
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| 1.1 研究背景 | 第9-10页 |
| 1.2 氦在钨块体中行为的研究现状 | 第10-11页 |
| 1.3 氦泡在钨表面行为的研究现状 | 第11页 |
| 1.4 课题的研究内容和意义 | 第11-13页 |
| 参考文献 | 第13-15页 |
| 第二章 分子动力学模拟方法 | 第15-21页 |
| 2.1 分子动力学简介 | 第15-16页 |
| 2.2 分子运动学基本原理 | 第16-18页 |
| 2.2.1 运动方程 | 第16页 |
| 2.2.2 初始条件的设定 | 第16-17页 |
| 2.2.3 边界条件的设定 | 第17页 |
| 2.2.4 势函数的选取 | 第17-18页 |
| 2.2.5 系综的选取 | 第18页 |
| 2.2.6 可视化处理 | 第18页 |
| 2.3 本章小结 | 第18-20页 |
| 参考文献 | 第20-21页 |
| 第三章 钨中缺陷性质的静力学研究 | 第21-30页 |
| 3.1 钨块体中的缺陷形成能 | 第21-24页 |
| 3.1.1 模型的建立及计算方法 | 第21-23页 |
| 3.1.2 计算结果与讨论 | 第23-24页 |
| 3.2 钨表面中的缺陷形成能 | 第24-28页 |
| 3.2.1 表面能 | 第24-25页 |
| 3.2.1.1 模型的建立 | 第24-25页 |
| 3.2.1.2 计算结果与讨论 | 第25页 |
| 3.2.2 表面中的缺陷形成能 | 第25-28页 |
| 3.2.2.1 模型的建立 | 第25页 |
| 3.2.2.2 计算结果与讨论 | 第25-28页 |
| 3.3 本章小结 | 第28-29页 |
| 参考文献 | 第29-30页 |
| 第四章 钨中近表面氦泡生长和释放的动力学模拟 | 第30-57页 |
| 4.1 模型的建立及体系的选取 | 第30-32页 |
| 4.1.1 氦原子的引入 | 第31页 |
| 4.1.2 氦泡压强的测定 | 第31页 |
| 4.1.3 氦泡释放的机制 | 第31-32页 |
| 4.2 钨表面取向的影响 | 第32-41页 |
| 4.3 氦泡的氦-空位比的影响 | 第41-46页 |
| 4.4 温度的影响 | 第46-51页 |
| 4.5 氦泡深度的影响 | 第51-54页 |
| 4.6 本章小结 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-57页 |
| 第五章 总结 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第59页 |
