| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-14页 |
| ·课题的来源及意义 | 第9-10页 |
| ·多层膜结构声表面波器件的研究历史与现状 | 第10-12页 |
| ·面临的问题 | 第12页 |
| ·本论文的立项依据和主要工作 | 第12-14页 |
| 第二章 多层膜结构声表面波器件及材料 | 第14-22页 |
| ·多层膜结构声表面波器件 | 第14-17页 |
| ·声表面波器件的基本结构和工作原理 | 第14-15页 |
| ·IDT/h-BN/Diamond 多层膜声表面波器件 | 第15-16页 |
| ·工艺流程 | 第16-17页 |
| ·多层膜结构声表面波器件材料 | 第17-22页 |
| ·声表面波器件中压电材料的特点 | 第17-18页 |
| ·金刚石的性质与应用 | 第18-19页 |
| ·氮化硼的相 | 第19-20页 |
| ·h-BN 的性质和应用 | 第20-22页 |
| 第三章 h-BN 薄膜制备技术及表征手段 | 第22-28页 |
| ·射频磁控溅射技术 | 第22-25页 |
| ·溅射的基本原理 | 第22-24页 |
| ·射频磁控溅射的特点 | 第24页 |
| ·JGP500D1 射频磁控溅射系统 | 第24-25页 |
| ·THL 真空退火炉 | 第25页 |
| ·表征手段 | 第25-28页 |
| ·傅里叶变换红外光谱 | 第26页 |
| ·X 射线衍射 | 第26页 |
| ·原子力显微镜 | 第26-28页 |
| 第四章 试验过程与结果讨论 | 第28-40页 |
| ·实验准备 | 第28-29页 |
| ·靶材烘烤 | 第28页 |
| ·衬底清洗 | 第28-29页 |
| ·衬底预溅射 | 第29页 |
| ·靶材反溅 | 第29页 |
| ·实验过程及结果讨论 | 第29-40页 |
| ·硅衬底上制备h-BN 薄膜 | 第29-35页 |
| ·金刚石衬底上制备h-BN 薄膜 | 第35-38页 |
| ·带有金属电极的硅衬底上制备h-BN 薄膜 | 第38-40页 |
| 第五章 总结 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-45页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第45-46页 |
| 致谢 | 第46-47页 |