| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-24页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第11-12页 |
| 1.2 材料简介 | 第12-16页 |
| 1.2.1 铜及其氧化物 | 第12-14页 |
| 1.2.2 锰酸锶和氧化镍材料简介及其研究进展 | 第14-15页 |
| 1.2.3 铁电，铁磁，多铁性材料简介 | 第15-16页 |
| 1.3 复合氧化物薄膜 | 第16-18页 |
| 1.4 界面效应 | 第18-19页 |
| 1.5 本论文的研究意义和内容 | 第19-20页 |
| 参考文献 | 第20-24页 |
| 第二章 靶材和薄膜的制备方法和表征手法 | 第24-37页 |
| 2.1 靶材的制备 | 第24-26页 |
| 2.2 薄膜的制备 | 第26-29页 |
| 2.2.1 脉冲激光沉积技术 | 第26-27页 |
| 2.2.2 脉冲激光沉积系统构造 | 第27-28页 |
| 2.2.3 薄膜的制备工艺 | 第28-29页 |
| 2.3 薄膜测试和表征方法 | 第29-36页 |
| 2.3.1 X射线衍射 | 第29-30页 |
| 2.3.2 原子力显微镜 | 第30-31页 |
| 2.3.3 扫描电子显微镜 | 第31页 |
| 2.3.4 透射电子显微镜 | 第31-32页 |
| 2.3.5 X射线能谱仪 | 第32-33页 |
| 2.3.6 UV-3600光的吸收测试 | 第33页 |
| 2.3.7 综合物性测量系统 | 第33-36页 |
| 参考文献 | 第36-37页 |
| 第三章 铜及其氧化物薄膜的制备及分析测试 | 第37-50页 |
| 3.1 引言 | 第37页 |
| 3.2 薄膜测试分析 | 第37-46页 |
| 3.2.1 靶材的X射线衍射分析 | 第37-38页 |
| 3.2.2 Cu及其氧化物薄膜的XRD分析 | 第38-42页 |
| 3.2.3 XPS及XAES分析测试 | 第42-46页 |
| 3.3 结果总结讨论 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |
| 第四章 铜及其氧化物薄膜的微结构及性质测试 | 第50-60页 |
| 4.1 引言 | 第50页 |
| 4.2 分析测试和讨论 | 第50-57页 |
| 4.2.1 表面形貌分析测试 | 第50-54页 |
| 4.2.2 薄膜微结构测试 | 第54-55页 |
| 4.2.3 电性质测试 | 第55-56页 |
| 4.2.4 光性质测试 | 第56-57页 |
| 4.3 本章小结 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-60页 |
| 第五章 SrMnO_3单相、复合薄膜的制备及物性研究 | 第60-77页 |
| 5.1 引言 | 第60页 |
| 5.2 单相薄膜的制备 | 第60-64页 |
| 5.2.1 单相靶材的制备 | 第60-62页 |
| 5.2.2 SMO单相薄膜的制备 | 第62-64页 |
| 5.2.3 NiO单相薄膜的制备 | 第64页 |
| 5.3 复合靶材及薄膜的制备 | 第64-66页 |
| 5.4 复合薄膜物性研究分析 | 第66-74页 |
| 5.4.1 复合薄膜微结构的研究 | 第66-70页 |
| 5.4.2 复合薄膜磁性测试 | 第70-74页 |
| 5.5 本章小结 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-77页 |
| 第六章 总结 | 第77-79页 |
| 攻读硕士期间公开发表的论文 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |