| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-29页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 磁制冷简介 | 第12-15页 |
| 1.2.1 磁热效应的热力学原理 | 第13-15页 |
| 1.2.2 磁制冷技术的分类 | 第15页 |
| 1.3 室温磁制冷材料 | 第15-20页 |
| 1.3.1 室温磁制冷材料的性能表征 | 第15-17页 |
| 1.3.2 室温磁制冷材料的研究现状 | 第17-20页 |
| 1.4 室温La-Fe-Si系磁制冷材料 | 第20-27页 |
| 1.4.1 La-Fe-Si系合金的磁性和晶体结构 | 第20-21页 |
| 1.4.2 La-Fe-Si系合金的研究进展 | 第21-24页 |
| 1.4.3 La-Fe-Si系合金的制备工艺 | 第24-27页 |
| 1.5 选题思路及研究内容 | 第27-29页 |
| 1.5.1 选题思路 | 第27页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第27-29页 |
| 第二章 实验方法及设备 | 第29-38页 |
| 2.1 工艺流程 | 第29页 |
| 2.2 合金成分设计 | 第29-30页 |
| 2.3 实验样品制备 | 第30-33页 |
| 2.3.1 真空电弧熔炼 | 第30-31页 |
| 2.3.2 真空熔体快淬 | 第31-32页 |
| 2.3.3 真空热处理 | 第32-33页 |
| 2.4 实验样品分析测试 | 第33-38页 |
| 2.4.1 碳硫分析 | 第33-34页 |
| 2.4.2 X射线衍射分析 | 第34-35页 |
| 2.4.3 磁性能分析测试 | 第35-36页 |
| 2.4.4 扫描电子显微镜 | 第36页 |
| 2.4.5 双聚焦离子束透射样品制备 | 第36-37页 |
| 2.4.6 透射电子显微镜分析 | 第37-38页 |
| 第三章 C掺杂对LaFe_(11.5)Si_(1.5)C_x (x=0, 0.1, 0.2, 0.3)快淬条带相组成及磁热性能的影响 | 第38-49页 |
| 3.1 引言 | 第38页 |
| 3.2 C掺杂对凝固过程中LaFe_(11.5)Si_(1.5)C_x (x=0, 0.1, 0.2, 0.3)合金条带相组成及磁热性能的影响 | 第38-43页 |
| 3.2.1 C掺杂对LaFe_(11.5)Si_(1.5)C_x (x=0, 0.1, 0.2, 0.3)合金淬态条带相组成的影响 | 第38-39页 |
| 3.2.2 C掺杂对LaFe_(11.5)Si_(1.5)C_x (x=0, 0.1, 0.2, 0.3)合金淬态条带磁性能的影响 | 第39-43页 |
| 3.3 C掺杂对热处理过程中LaFe_(11.5)Si_(1.5)C_x (x=0, 0.1, 0.2, 0.3)快淬条带的相组成及磁热性能的影响 | 第43-48页 |
| 3.3.1 C掺杂对热处理后的LaFe_(11.5)Si_(1.5)C_x (x=0, 0.1, 0.2, 0.3)合金快淬条带相组成的影响 | 第43-44页 |
| 3.3.2 C掺杂对热处理后的LaFe_(11.5)Si_(1.5)C_x (x=0, 0.1, 0.2, 0.3)合金快淬条带磁性能的影响 | 第44-48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 在 1273 K温度下，不同的热处理时间对LaFe_(11.5)Si_(1.5)C_(0.2) 合金快淬条带相组成、磁性能及微观组织的影响 | 第49-63页 |
| 4.1 引言 | 第49页 |
| 4.2 不同的热处理时间对LaFe_(11.5)Si_(1.5)C_(0.2) 合金快淬条带相组成的影响 | 第49-50页 |
| 4.3 不同的热处理时间对LaFe_(11.5)Si_(1.5)C_(0.2) 合金快淬条带磁性能的影响 | 第50-55页 |
| 4.4 不同的热处理时间对LaFe_(11.5)Si_(1.5)C_(0.2) 合金快淬条带微观组织的影响 | 第55-62页 |
| 4.5 本章小结 | 第62-63页 |
| 第五章 总结与展望 | 第63-65页 |
| 5.1 全文总结 | 第63-64页 |
| 5.2 创新性 | 第64页 |
| 5.3 未来的展望与设想 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文及取得的相关科研成果 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
