硅粉末及铜硅混合粉末冷喷涂基板时沉积特性的实验研究
| 中文摘要 | 第3-4页 |
| 英文摘要 | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第8-22页 |
| 1.1 引言 | 第8-9页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第9-12页 |
| 1.2.1 锂离子电池的原理及特点 | 第9-10页 |
| 1.2.2 正极材料 | 第10页 |
| 1.2.3 负极材料 | 第10-12页 |
| 1.2.4 电解液 | 第12页 |
| 1.3 硅基材料的制备 | 第12-18页 |
| 1.3.1 纳米化 | 第13-15页 |
| 1.3.2 复合化 | 第15-18页 |
| 1.4 锂离子电池商业化生产流程 | 第18-19页 |
| 1.5 冷喷涂技术简介 | 第19-21页 |
| 1.5.1 冷喷涂技术原理 | 第19-20页 |
| 1.5.2 冷喷涂涂层的影响因素 | 第20-21页 |
| 1.6 主要研究内容 | 第21-22页 |
| 2 涂层制备及分析方法 | 第22-28页 |
| 2.1 实验材料及设备 | 第22-24页 |
| 2.1.1 喷涂粉末 | 第22页 |
| 2.1.2 基体材料 | 第22页 |
| 2.1.3 冷喷涂设备 | 第22-24页 |
| 2.2 粉末混合装置 | 第24-25页 |
| 2.3 涂层制备过程 | 第25-26页 |
| 2.4 涂层分析方法 | 第26-28页 |
| 2.4.1 粉末粒径及形状分析 | 第26页 |
| 2.4.2 基板喷涂前后质量的变化 | 第26页 |
| 2.4.3 涂层喷涂后的后处理 | 第26页 |
| 2.4.4 扫描电镜分析 | 第26-27页 |
| 2.4.5 能谱分析 | 第27页 |
| 2.4.6 X射线衍射分析 | 第27-28页 |
| 3 纯硅粉末喷涂涂层 | 第28-46页 |
| 3.1 引言 | 第28页 |
| 3.2 陶瓷粉末喷涂研究现状 | 第28页 |
| 3.3 实验粉末及工况参数 | 第28-30页 |
| 3.4 冲蚀现象 | 第30-32页 |
| 3.5 涂层结构 | 第32-43页 |
| 3.5.1 喷涂道次与气体参数对涂层结构的影响 | 第32-36页 |
| 3.5.2 粉末粒径对涂层结构的影响 | 第36-41页 |
| 3.5.3 送粉流率对涂层结构的影响 | 第41-43页 |
| 3.6 探究单颗硅粒子沉积于基板的现象 | 第43-44页 |
| 3.7 涂层中硅铜结合面的观察 | 第44-45页 |
| 3.8 本章小结 | 第45-46页 |
| 4 铜硅混合粉末喷涂 | 第46-53页 |
| 4.1 引言 | 第46页 |
| 4.2 混合粉末的制备 | 第46-47页 |
| 4.3 气体参数 | 第47-49页 |
| 4.4 混合粉末的沉积特性 | 第49-50页 |
| 4.5 混合比例 | 第50-52页 |
| 4.6 本章小结 | 第52-53页 |
| 5 结论与展望 | 第53-55页 |
| 5.1 全文总结 | 第53页 |
| 5.2 工作展望 | 第53-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-58页 |
