| 摘要 | 第2-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 电化学传感器 | 第9-10页 |
| 1.1.1 电化学传感器的背景 | 第9页 |
| 1.1.2 电化学传感器的分类 | 第9-10页 |
| 1.1.3 电化学传感器的应用 | 第10页 |
| 1.2 壳聚糖 | 第10-12页 |
| 1.2.1 壳聚糖的简介 | 第10-11页 |
| 1.2.2 壳聚糖的特性及应用 | 第11-12页 |
| 1.3 金属纳米材料 | 第12-14页 |
| 1.3.1 金属纳米材料的简介 | 第12页 |
| 1.3.2 金属纳米材料的制备 | 第12-14页 |
| 1.3.3 金属纳米材料的应用 | 第14页 |
| 1.4 碳纳米管 | 第14-16页 |
| 1.4.1 碳纳米管的简介 | 第14-15页 |
| 1.4.2 碳纳米管的性质 | 第15页 |
| 1.4.3 碳纳米管的改性方法 | 第15-16页 |
| 1.4.4 碳纳米管的应用 | 第16页 |
| 1.5 本论文的目的和意义 | 第16-18页 |
| 第二章 甘氨酸/MWNTs修饰玻碳电极的制备及对三聚氰胺的电化学测定 | 第18-30页 |
| 2.1 引言 | 第18-19页 |
| 2.2 实验部分 | 第19-21页 |
| 2.2.1 主要仪器 | 第19页 |
| 2.2.2 主要试剂 | 第19页 |
| 2.2.3 修饰电极的制备 | 第19-20页 |
| 2.2.4 实验方法 | 第20-21页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第21-29页 |
| 2.3.1 甘氨酸/MWNTs/GCE修饰电极的表征 | 第21-24页 |
| 2.3.1.1 甘氨酸/MWNTs/GCE的XPS图和SEM图 | 第21-22页 |
| 2.3.1.2 甘氨酸/MWNTs/GCE层层修饰的CV测定 | 第22-23页 |
| 2.3.1.3 甘氨酸/MWNTs/GCE层层阻抗表征 | 第23-24页 |
| 2.3.2 三聚氰胺在甘氨酸/MWNTs/GCE上的电化学表征 | 第24-25页 |
| 2.3.3 底液浓度的影响 | 第25-26页 |
| 2.3.4 聚合电位的影响 | 第26页 |
| 2.3.5 扫描速率的影响 | 第26-27页 |
| 2.3.6 线性范围及检测限 | 第27-28页 |
| 2.3.7 甘氨酸/MWNTs/GCE干扰实验与重现性探究 | 第28-29页 |
| 2.3.8 甘氨酸/MWNTs/GCE在实际样品中的应用 | 第29页 |
| 2.4 结论 | 第29-30页 |
| 第三章 AuPdNPs/碳纳米管-壳聚糖复合材料修饰玻碳电极及其对（Cu(Ⅱ)）测定的研究 | 第30-42页 |
| 3.1 引言 | 第30-31页 |
| 3.2 实验部分 | 第31-33页 |
| 3.2.1 主要仪器及试剂 | 第31页 |
| 3.2.2 修饰电极的制备 | 第31-32页 |
| 3.2.3 实验方法 | 第32-33页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第33-41页 |
| 3.3.1 修饰电极的表征 | 第33-35页 |
| 3.3.1.1 修饰电极的Q—t表征 | 第33-34页 |
| 3.3.1.2 修饰电极的SEM图 | 第34页 |
| 3.3.1.3 修饰电极的阻抗表征 | 第34-35页 |
| 3.3.2 层层修饰电极测定（Cu(Ⅱ)）的电化学行为(CV和DPV) | 第35-36页 |
| 3.3.3 溶液pH的影响 | 第36-37页 |
| 3.3.4 沉积电位的探究 | 第37-38页 |
| 3.3.5 沉积时间的探究 | 第38-39页 |
| 3.3.6 线性范围及检测限 | 第39-40页 |
| 3.3.7 修饰电极的干扰实验及重现性探究 | 第40页 |
| 3.3.8 实际样品分析 | 第40-41页 |
| 3.4 结论 | 第41-42页 |
| 第四章 聚酒石酸/碳纳米管-壳聚糖复合材料修饰玻碳电极及其对抗坏血酸测定的研究 | 第42-54页 |
| 4.1 引言 | 第42-43页 |
| 4.2 实验部分 | 第43-45页 |
| 4.2.1 主要仪器及试剂 | 第43页 |
| 4.2.2 修饰电极的制备 | 第43-44页 |
| 4.2.3 实验方法 | 第44-45页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第45-53页 |
| 4.3.1 修饰电极的表征 | 第45-47页 |
| 4.3.1.1 修饰电极层层CV表征及阻抗表征 | 第45-46页 |
| 4.3.1.2 修饰电极的SEM表征图 | 第46-47页 |
| 4.3.2 电极层层测定的CV表征 | 第47-48页 |
| 4.3.3 酒石酸（TA）的最佳聚合浓度的探讨 | 第48页 |
| 4.3.4 酒石酸（TA）最佳聚合圈数的探讨 | 第48-49页 |
| 4.3.5 溶液最佳p H的探讨 | 第49-50页 |
| 4.3.6 峰电流与扫描速率的探究 | 第50-52页 |
| 4.3.7 线性范围及检测限 | 第52页 |
| 4.3.8 修饰电极的重现性与干扰实验探究 | 第52-53页 |
| 4.3.9 修饰电极在实际样品中的测定 | 第53页 |
| 4.4 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 附录 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第71-73页 |
| 附件 | 第73页 |
