强耦合QGP介质中的胶子分布与喷注淬火的的细致平衡效应
| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 1 引言 | 第7-9页 |
| 2 喷注淬火的基本理论 | 第9-19页 |
| 2.1 G-W模型 | 第9-11页 |
| 2.2 喷注淬火理论 | 第11-19页 |
| 2.2.1 有限长度介质中的能量损失 | 第11-13页 |
| 2.2.2 Opacity展开方法 | 第13-16页 |
| 2.2.3 LP M效应 | 第16-19页 |
| 3 非广延统计 | 第19-27页 |
| 3.1 非广延熵 | 第19-21页 |
| 3.2 伴随分布理论 | 第21-23页 |
| 3.3 非广延分布 | 第23-27页 |
| 3.3.1 Hagedorn理论 | 第23页 |
| 3.3.2 T sallis理论 | 第23-24页 |
| 3.3.3 微观态出现的几率 | 第24-25页 |
| 3.3.4 非广延分布函数 | 第25-27页 |
| 4 强耦合作用下的胶子分布 | 第27-31页 |
| 4.1 胶子之间的相互作用势 | 第27-28页 |
| 4.2 强相互作用下的胶子分布函数 | 第28-30页 |
| 4.3 总结 | 第30-31页 |
| 5 强耦合介质中喷注淬火的细致平衡效应 | 第31-43页 |
| 5.1 胶子辐射与吸收 | 第31-35页 |
| 5.2 强耦合介质中喷注淬火的细致平衡效应 | 第35-42页 |
| 5.3 总结 | 第42-43页 |
| 结论 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-47页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第47-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
