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非晶IGZO薄膜晶体管背沟道表面修饰及器件特性研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第10-25页
    1.1 IGZO简介第10-11页
    1.2 IGZO TFT应用第11-20页
        1.2.1 a-IGZO TFT在显示器中的应用第11-14页
        1.2.2 a-IGZO TFT在显示器件应用中尚待解决的主要问题第14-17页
        1.2.3 a-IGZO TFT在逻辑电路中的应用第17-19页
        1.2.4 a-IGZO TFT在光电器件中的应用第19-20页
    1.3 基于a-IGZO的异质p-n结研究第20-22页
        1.3.1 p-n结的基本原理第21页
        1.3.2 薄膜p-n结的制备工艺第21页
        1.3.3 基于IGZO的异质结研究现状第21-22页
    1.4 PEDOT简介第22-23页
    1.5 本课题研究的目的和意义第23-25页
第二章 底栅结构a-IGZO TFT的制备第25-31页
    2.1 TFT的结构分类第25页
    2.2 a-IGZO TFT的制备及表征手段第25-27页
    2.3 底栅结构a-IGZO TFT的制备及表征第27-30页
    2.4 本章小结第30-31页
第三章 背沟道修饰氧化物的a-IGZO TFT性能研究及其反相器应用第31-46页
    3.1 背沟道修饰NiO的a-IGZO TFT性能研究第31-33页
    3.2 背沟道修饰Al_2O_3的a-IGZO TFT性能研究第33-35页
    3.3 背沟道修饰SnO_x的a-IGZO TFT性能研究及其反相器应用第35-44页
    3.4 本章小结第44-46页
第四章 ITO/ IGZO/PEDOT:PSS/Ag异质结的制备第46-58页
    4.1 ITO/IGZO/PEDOT:PSS/Ag异质结的结构及制备流程第46-47页
    4.2 ITO/ IGZO/PEDOT:PSS/Ag异质结的表征与分析第47-56页
    4.3 本章小结第56-58页
第五章 修饰PEDOT:PSS后的a-IGZO TFT光、电耦合信号研究第58-63页
    5.1 a-IGZO TFT背沟道修饰PEDOT:PSS的工艺流程第58-59页
    5.2 a-IGZO TFT背沟道修饰PEDOT:PSS后的光电性能表征第59-60页
    5.3 实验中存在的问题及改进措施第60-62页
    5.4 本章小结第62-63页
第六章 总结及展望第63-65页
    6.1 结论第63-64页
    6.2 展望第64-65页
参考文献第65-75页
作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果第75-77页
致谢第77-79页

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