| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·ZnO 结构、性质及应用 | 第9-12页 |
| ·ZnO 的晶体结构及基本性质 | 第9-10页 |
| ·ZnO 的缺陷与掺杂 | 第10-11页 |
| ·ZnO 的应用 | 第11-12页 |
| ·掺杂 ZnO 薄膜的研究进展 | 第12-13页 |
| ·ZnO 电致发光器件 | 第13-16页 |
| ·电致发光器件的应用 | 第13-14页 |
| ·ZnO 电致发光器件的研究进展 | 第14-16页 |
| ·本文的研究目的及主要内容 | 第16-17页 |
| 第二章 电致发光理论 | 第17-31页 |
| ·电致发光简介 | 第17页 |
| ·电致发光的分类 | 第17-18页 |
| ·电致发光的发光机理 | 第18-23页 |
| ·电致发光的激发过程 | 第18-19页 |
| ·电致发光的能量输运过程 | 第19-20页 |
| ·电致发光的复合发光过程 | 第20-21页 |
| ·薄膜电致发光的器件的发光原理 | 第21-23页 |
| ·电致发光的光电特性 | 第23-31页 |
| ·ZnO 电致发光器件的结构模型 | 第23-26页 |
| ·ZnO 电致发光器件的材料选择与制备 | 第26-31页 |
| 第三章 ZnO 薄膜的制备与表征 | 第31-61页 |
| ·掺杂 ZnO 薄膜的制备 | 第31-36页 |
| ·ZnO 电致发光器件的材料选择与制备 | 第31-33页 |
| ·实验仪器及设备 | 第33-34页 |
| ·掺杂 ZnO 薄膜的制备过程 | 第34-36页 |
| ·掺杂 ZnO 薄膜的表征技术 | 第36-40页 |
| ·材料表面形貌的表征技术—场发射扫描电子显微镜 | 第37页 |
| ·材料的结构表征—X 射线衍射仪 | 第37-39页 |
| ·紫外-可见-近红外分光光度计 | 第39-40页 |
| ·荧光光谱仪 | 第40页 |
| ·掺杂浓度对 Li:ZnO 薄膜的结构和光学性能的影响 | 第40-46页 |
| ·掺杂浓度对 Li:ZnO 薄膜的表面形貌的影响 | 第41页 |
| ·掺杂浓度对 Li:ZnO 薄膜的结构的影响 | 第41-42页 |
| ·掺杂浓度对 Li:ZnO 薄膜的光学带隙的影响 | 第42-44页 |
| ·掺杂浓度对 Li:ZnO 薄膜的光致发光的影响 | 第44-46页 |
| ·退火温度对 Li:ZnO 薄膜的结构和光学性能的影响 | 第46-50页 |
| ·退火温度对 Li:ZnO 薄膜的表面形貌的影响 | 第46-47页 |
| ·退火温度对 Li:ZnO 薄膜的结构的影响 | 第47-49页 |
| ·退火温度对 Li:ZnO 薄膜的光学性能的影响 | 第49-50页 |
| ·掺杂浓度对 Eu:ZnO 薄膜的结构和光学性能的影响 | 第50-55页 |
| ·掺杂浓度对 Eu:ZnO 薄膜的结构的影响 | 第51-52页 |
| ·掺杂浓度对 Eu:ZnO 薄膜的表面形貌的影响 | 第52-53页 |
| ·掺杂浓度对 Eu:ZnO 薄膜的透射谱的影响 | 第53-54页 |
| ·掺杂浓度对 Eu:ZnO 薄膜的光致发光的影响 | 第54-55页 |
| ·退火温度对 Eu:ZnO 薄膜的结构和光学性能的影响 | 第55-61页 |
| ·退火温度对 Eu:ZnO 薄膜的结构的影响 | 第55-56页 |
| ·退火温度对 Eu:ZnO 薄膜的透射谱和吸收谱的影响 | 第56-59页 |
| ·退火温度对 Eu:ZnO 薄膜的光致发光的影响 | 第59-61页 |
| 第四章 掺杂 ZnO 薄膜电致发光器件的研究 | 第61-68页 |
| ·电致发光器件的制备及测量仪器的介绍 | 第61-62页 |
| ·掺杂 ZnO 薄膜的电致发光器件的制备 | 第61页 |
| ·掺杂 ZnO 薄膜的电致发光器件的制备 | 第61-62页 |
| ·ITO/ZnO 薄膜/Ag 电致发光器件的性质研究 | 第62-64页 |
| ·ITO/Li:ZnO 薄膜/Ag 电致发光器件的性质研究 | 第64-65页 |
| ·ITO/Eu:ZnO 薄膜/Ag 电致发光器件的性质研究 | 第65-68页 |
| 第五章 工作总结与展望 | 第68-70页 |
| ·工作总结 | 第68-69页 |
| ·展望 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
